Gebraucht CANON PLA 501 F #9121428 zu verkaufen

CANON PLA 501 F ist eine fortschrittliche Photolithographie-Schrittmaschine, die einen präzisen Maskenausrichter verwendet, um integrierte Schaltungsmuster auf Submikron-Ebene zu erstellen. Es ist für hochpräzise, kontinuierliche Fließverarbeitung konzipiert und ist in der Lage, Miniskülmuster und Schaltungsdesigns mit hoher Genauigkeit und Gleichmäßigkeit zu produzieren. CANON PLA-501F verwendet eine schrittweise und wiederholte Ausrichtungstechnologie, um sicherzustellen, dass jedes Muster konsequent und mit hoher Genauigkeit angewendet wird. Dieses System verwendet Lasermarkierungstechniken, die die effiziente und vorgegebene Platzierung von Mustern im Chipdesign erleichtern. Die optischen Komponenten des Steppers liefern ein hochauflösendes Bild, das der Maskenstufe zugeführt und an der genauen Stelle projiziert wird, die benötigt wird, um das gewünschte Muster auf dem Substrat zu erzeugen. Dadurch wird sichergestellt, dass jedes Konstruktions- oder Musterelement jedes Mal genau platziert wird. PLA 501F bietet einen hohen Automatisierungsgrad mit mehreren Prozesssteuerungsfunktionen. Das Softwarepaket ermöglicht es dem Benutzer, Einstellungen wie Belichtungszeit, Dosis und Fokuseinstellungen zu programmieren und zu steuern. Darüber hinaus kann es mehrere Wafer-Rezepte speichern, die für die Batch-Verarbeitung verwendet werden. Darüber hinaus kann die Maschine mit externen Datenkommunikationssystemen verbunden werden und die LabVIEW-Software ermöglicht es dem Anwender, das gesamte System zu überwachen und Echtzeitmodifikationen zu erstellen. PLA 501 F bietet zudem zuverlässige Wiederholbarkeit und präzise Registrierung. Sein automatisiertes und programmierbares Geräteausrichtsystem sorgt dafür, dass auf jedes Chipmuster die entsprechenden Messungen und Einstellungen angewendet werden. Dadurch wird sichergestellt, dass jedes Design bis zu 99% der Zeit repliziert wird und die höchste Genauigkeit und Produktausbeute erreicht wird. Darüber hinaus ermöglicht die schnell abtastende Optik von CANON PLA 501F einen höheren Durchsatz an Substraten mit schnellerer Produktionszeit. PLA-501F ist ideal für die Herstellung von hochpräzisen, integrierten Schaltungskonstruktionen. Seine programmierbaren Prozesssteuerungsfunktionen, zuverlässige Wiederholbarkeit und präzise Substratregistrierung machen es zu einer ausgezeichneten Wahl für die moderne, hochvolumige Chipproduktion.