Gebraucht CANON PLA 501 F #9265301 zu verkaufen

CANON PLA 501 F ist ein Maskenausrichter, der es Anwendern ermöglicht, Muster genau und schnell auf Halbleiterscheiben auszurichten und zu übertragen. Es ist ein automatisierter Halbleitermasken-Mustergenerator und soll eine präzise Ausrichtung bei der Übertragung von Mustern aus verschiedenen Materialschichten auf Wafer ermöglichen. CANON PLA-501F kann eine breite Palette von Wafergrößen handhaben, die von 5 bis 200 Millimeter runde Wafer reichen. Es verfügt auch über eine hochauflösende optische Ausrüstung, die in der Lage ist, genaue und wiederholbare überlagerte Muster zu erzeugen. Diese Funktion macht manuelle Korrekturen überflüssig, was letztlich Zeit und Kosten spart. Die Maschine ist mit einem digitalen Positioniersystem ausgestattet, das eine präzise Ausrichtung sowie eine automatisierte Registrierung für mehrere Muster ermöglicht. Diese Einheit bietet eine hohe Genauigkeit bei der Ausrichtung und Korrektur von Mustern auf den Wafer, wodurch der Bedarf an menschlichen Eingriffen reduziert wird. Die Maschine verfügt auch über einen breiten Belichtungsbereich, der es Benutzern ermöglicht, mehrere Muster gleichzeitig zu erzeugen. Dies reduziert die Vorlaufzeit, die oft mit herkömmlichen manuellen Maskenausrichtern verbunden ist. Die Maschine ist mit einer Hochleistungs-Laserdiode ausgestattet, die eine maximale 36mW der UV-Beleuchtung emittiert, die extrem genaue und wiederholbare Belichtungen von Mustern auf Wafern ermöglicht. Darüber hinaus ermöglicht PLA 501F Benutzern, eine Reihe von Belichtungen zu programmieren, die dann automatisch ausgeführt werden, um konsistente zuverlässige Ergebnisse zu gewährleisten. Seine schwingungsarme Maschine, die jede Schwingungsstörung des optischen Werkzeugs beim Belichten von Mustern auf Wafern beseitigt. Darüber hinaus ist die Maschine mit einer eingebauten Stromversorgung ausgestattet, die einen reibungslosen und zuverlässigen Betrieb während des gesamten Belichtungszyklus gewährleistet. Insgesamt ist CANON PLA 501F ein effizienter, zuverlässiger und einfach zu bedienender Maskenausrichter, der bei der Übertragung von Mustern auf Halbleiterscheiben eine hohe Genauigkeit und Wiederholbarkeit ergibt. Seine fortschrittlichen Eigenschaften und Design machen es zu einem unschätzbaren Werkzeug für jeden Halbleiterproduktionsprozess.