Gebraucht CANON PLA 501 FA #163565 zu verkaufen

CANON PLA 501 FA ist ein hochmoderner Maskenausrichter, der speziell für Anwendungen mit hoher Präzision und hohem Durchsatz entwickelt wurde. Das Gerät bietet eine optimale Lithographie-Plattform für die fortschrittliche Herstellung von nano-/mikroelektronischen Geräten. CANON PLA-501FA ist in der Lage, eine stabile Ausrichtungsgenauigkeit von 0,5 µm über das gesamte Substrat zu erzielen, und bietet hochgenaue, submikronkritische Abmessungen für die Gerätemuster, die für die nächste Generation von integrierten Schaltungsbauelementen erforderlich sind. Das System verfügt über eine einzigartige Projektionsoptik-Technologie von CANON und ermöglicht eine breite Palette beliebiger Kettenmatrizen für eine fortschrittliche 3-dimensionale Maskenausrichtung. Das Design verfügt über eine hochpräzise Wafer-Level-Stufe, die eine genaue Probenplatzierung sowie Wiederholbarkeit von Submikronen ermöglicht. Darüber hinaus ist das Gerät vollständig kompatibel mit verschiedenen Resist- und Belichtungsschritten, wie weichem und tiefem UV, Iline, E-Beam und analoger und digitaler Lithographie. PLA 501FA wird von einer umfassenden Ausrichtungssteuerungsmaschine angetrieben, die bis zu 256.000 Ausrichtungsmessungen pro Stunde durchführen kann. Das Tool verwendet einen Open-Architecture-Algorithmus, um den Ausrichtungsprozess zu steuern und bietet außergewöhnliche dynamische Leistung für hochkomplexe Belichtungsprozesse. Die integrierten Sichtsysteme ermöglichen eine hochpräzise Mustererkennung, wodurch nur kleine Details auf der Waferoberfläche erkannt und genau ausgerichtet werden. PLA-501 FA ist in der Lage, zwei Substrate unterschiedlicher Größe bis zu 8 Zoll Durchmesser zu handhaben und ist aufgrund seiner wartungsarmen Konstruktion sehr zuverlässig. Abschließend ist PLA 501 FA ein leistungsstarkes, zuverlässiges Werkzeug, das den Anforderungen der Nano-/Mikroelektronik-Fertigung gerecht wird. Das Asset bietet hohe Genauigkeit bei hoher Durchsatzrate und ermöglicht beliebige Kettenmatrizen für die 3-dimensionale Maskenausrichtung. Die Maschine ist in der Lage, hochpräzise Mustererkennung und ermöglicht verschiedene Resist- und Belichtungsschritte. PLA-501FA ist das perfekte Modell für die fortschrittliche Fertigung anspruchsvollster nano-/mikroelektronischer Geräteanwendungen.