Gebraucht CANON PLA 501 FA #293674409 zu verkaufen

CANON PLA 501 FA ist ein Mikrolithographie-Masken-Aligner, der entwickelt wurde, um IC-Chips zu mustern, die in der Elektronikindustrie verwendet werden. Dieses Gerät ist hochgenau und in der Lage, die Musterausrichtung mit einer Genauigkeit von bis zu 0,3 Mikron zu steuern. CANON PLA-501FA ist ein Maskenausrichter, der zur direkten Exposition auf mehreren Substraten wie Silizium, Polyimid und Kapton verwendet wird. Es besteht aus einer Präzisions-Positionierstufe, die das Substrat in drei Achsen bewegen und genau auf das Maskenset ausrichten kann. Diese Positionierstufe kann Substrate mit einem Durchmesser von maximal 7 Zoll und einer Dicke von 1 - 6 mm unterstützen. Das Gerät verwendet eine CANON hergestellte, hochauflösende Linsenanordnung mit einer numerischen Apertur von 0,60, einer Projektionslinsenvergrößerung von 0,63 und einem Arbeitsabstand von 8,0 mm. Dieser Linsenzusammenbau kann einem vollen Feld ultraviolette Vorsprungsaussetzung mit einer minimalen Entschlossenheit von 0,3 Mikron bieten. PLA 501FA verfügt über schnelle Scan- und Verfolgungsfunktionen, so dass es in kurzer Zeit hochpräzise Masken produzieren kann. Das System ist mit einem CANON gefertigten optischen Interferometer ausgestattet, das verwendet wird, um die planare, lineare und winkelige Verschiebung der Oberfläche des Substrats bei jeder Belichtung zu überwachen, um eine korrekte Ausrichtung zu gewährleisten. Dieses Interferometer ist mit einer hochempfindlichen Mikroskop-Autofokuseinheit gekoppelt, die die Substratoberfläche genau mit dem Maskensatz ausrichten kann. Die Maschine kann in einem manuellen, halbautomatischen oder vollautomatischen Modus betrieben werden, so dass sie einfach an verschiedene Anforderungen und Arbeitsumgebungen angepasst werden kann. Zur Vermeidung von Kontaminationen aus der Umwelt wird ständig Luft, die durch einen Ionisator gereinigt wird, zugeführt. Zusätzlich ist eine Infrarotkamera in das Werkzeug integriert, die ein Overlay-Belichtungsbild liefert, mit dem die Position und der Belichtungsbereich der Maske dynamisch über den Wafer verfolgt werden können. Insgesamt ist PLA-501 FA-Masken-Aligner in der Lage, eine Musterausrichtung mit einer Präzision von bis zu 0,3 Mikron zu ermöglichen, was es zu einem wertvollen Werkzeug für IC-Chips in der Elektronikindustrie macht.