Gebraucht CANON PLA 501 FA #293749123 zu verkaufen

CANON PLA 501 FA ist eine Art von Masken-Aligner am häufigsten in der Photolithographie verwendet. Mit diesem Werkzeug können vordefinierte Muster mit großer Genauigkeit auf eine Oberfläche oder ein Material übertragen werden. Sie dient dazu, Schaltungslayouts auf Halbleiterscheiben zu übertragen oder lichtempfindliche Photolackmaterialien zu verarbeiten, die zur Bildung der eigentlichen Bauelemente von integrierten Schaltungschips verwendet werden können. Diese Art von Masken-Aligner ist eine kompakte, kostengünstige Lösung im Vergleich zu anspruchsvolleren Modellen und wird daher typischerweise in Forschungslabors und akademischen Umgebungen eingesetzt. CANON PLA-501FA ist ein Stepper, was bedeutet, dass es zwischen Belichtungen und einem Ausrichtungsschritt schreiten kann, um die Genauigkeit auf sehr repetitive Muster zu maximieren. Es ist mit zwei hochauflösenden Kamerasystemen ausgestattet, die eine präzise Ausrichtung und Registrierung ermöglichen. Die Kamerasysteme verfügen über Autofokus und präzise Feinabstimmungsfunktionen, um eine präzise Bildausrichtung und Bildqualität zu gewährleisten. Der Maskenausrichter wird von einer präzise abgestimmten optischen Abtastausrüstung angetrieben. Dieses System verwendet ein Paar galvanometrische Spiegel, die auf einer hochpräzisen Stufe montiert sind. Diese Spiegel werden elektronisch gesteuert, um die Scan- und Belichtungsoptik genau zu bewegen und präzise Muster auf dem Substrat für einen präzisen Druckprozess anzuzeigen. Die Scan-und Belichtungseinheit auf PLA- 501FA haben in der Regel einen Fußabdruck von nicht größer als 1300 x 1300µm für die Ausrichtung von detaillierten Mustern. Diese Maschine enthält ein automatisches Ausrichtungswerkzeug, um die Belichtungszeit zu minimieren und die Genauigkeit zu verbessern. Das autofokussierende Alignment Asset misst den Fokus bei jeder Belichtung genau, passt die Strahlleistung ständig an und erzeugt schließlich den erforderlichen Fokus. Ein programmierbarer Endanschlag kann programmiert werden, um bei jeder Belichtung präzise Start- und Stopppunkte zu gewährleisten. Die Belichtung der Maske kann auch unabhängig eingestellt werden, um die Form und Größe des Musters zu steuern. CANON PLA-501 FA kann mit einem PC verbunden werden, um das automatische Be- und Entladen der Substrate unter Beibehaltung der Programmiergenauigkeit zu erleichtern. Dieser Aligner ist auch mit einem Modell zur Temperatur- und Feuchtigkeitskontrolle ausgestattet, das Substrate während der Belichtung unter den richtigen Bedingungen hält. Diese Ausrüstung kann an eine Vielzahl verschiedener Substrate angepasst werden, von denen einige Resist, Silikon, Keramik, Glas und Kunststoff umfassen. Diese Maske Aligner kommt mit Funktionen, die es zu einer bevorzugten Wahl für Mikrofabrikation in Forschung und pädagogischen Laboren machen. Seine kompakte Größe und seine kostengünstige Lösung machen es zu einer bevorzugten Wahl für Forscher, die die größeren und anspruchsvolleren Modelle nicht benötigen. Mit seiner präzisen Optik und hochpräzisen Ausrichtbarkeit ist PLA-501 FA eine zuverlässige und professionelle Wahl für Photolithographie und Mikrofabrikation.