Gebraucht CANON PLA 501 FA #293749124 zu verkaufen

CANON PLA 501 FA ist ein Hochleistungsmasken-Aligner, der in der Lage ist, eine genaue und zuverlässige Musterausrichtung in photolithographischen Prozessen bereitzustellen. Das Gerät ist ein vielseitiger und fortschrittlicher Aligner, der mit einer Vielzahl von Substraten und Widerständen umgehen kann. Es ist in der Lage, sowohl direkte bildgebende als auch maskenbasierte Prozesse ohne zusätzliche Ausrüstung durchzuführen. CANON PLA-501FA ist mit einem 630 mm Arbeitsabstand, einer wiederholbaren Genauigkeit bis 0,2 um und einer maximalen Wafergröße von 200mm ausgestattet. Das Gerät hat auch einen 12-Zoll-aktiven Bereich mit einem Zoombereich von mindestens 8x. Es hat eine Standardfeldgröße von 7.250 x 5.250 Zoll und eine integrierte Autofokus-Ausrüstung, um eine genaue Ausrichtung der Maske und des Resists zu gewährleisten. Das Gerät nutzt G-line (430nm) und I-line (365nm) Quellen für die Belichtung und hat eine maximale Ausrichtgeschwindigkeit von 0,05ms pro Schuss. Es verfügt auch über direkte Abbildungsmodi, die Einzelbelichtungs-, Multibelichtungs-, Geisterbild- und Geisterbelichtungsprozesse bereitstellen können. Das Gerät verfügt über eine einfach zu bedienende grafische Benutzeroberfläche mit flexibler Rezeptprogrammierung, eine PC-Remote-Software und einen Webserver für die Systemvernetzung. Es verfügt über eine integrierte HIAC-Überwachungseinheit für Prozessergebnisse. Darüber hinaus verfügt das Gerät über eine breite Palette von Post-Exposure-Backplattformen, mit denen verschiedene Resistdicken mit einem Gerät getestet werden können. Es besitzt auch eine Waferausrichtmaschine, die die Anzahl der während des Photolithographie-Prozesses benötigten Masken reduziert. Abschließend ist PLA 501FA ein leistungsstarkes, leistungsstarkes Werkzeug, das in der Lage ist, Photolithographie-Prozesse mit hoher Genauigkeit durchzuführen. Es verfügt über eine breite Palette von Funktionen und Tools wie direkte Bildgebung, Multi-Exposure, G-Line und I-Line-Quellen, HIAC-Monitoring-Tool, und eine Wafer-Ausrichtung Asset, so dass es eine ausgezeichnete Wahl für eine Maske Ausrichter.