Gebraucht CANON PLA 501 FA #293763589 zu verkaufen

CANON PLA 501 FA ist ein Vollfeld-Maskenausrichter (FA) mit einer Funktionsschichtgröße von 12 Mikrometern und einer Schrittauflösung von 12,5 Nanometern. Dieses Masken-Aligner eignet sich für hochauflösende Photolithographie, sowie ultrapräzise Herstellung. Eine der Hauptanwendungen von CANON PLA-501FA mask aligner ist die Herstellung von integrierten Schaltungen (IC). Es wird umfassend in Halbleiterlithographieverfahren eingesetzt, da sein großer Arbeitsbereich, seine Vollfeldfokussierung und seine hohen Präzisionsfähigkeiten die Herstellung von Hochleistungs-ICs erleichtern. PLA- 501FA verfügt über eine 25-Punkt-X-Y-Stufe, sechs aktive Ausrichtungs-Musterpositionen und zwei Maskenwechsler. Dies ermöglicht die parallele Ausrichtung und Strukturierung, erhöht den Durchsatz und verbessert die Gesamtproduktivität. Die 12-Mikron-Punktgröße der Maskenausrichter sorgt für eine extrem hohe Auflösung und Präzision, während die 12,5-Nanometer-Schrittauflösung die Genauigkeit und Wiederholbarkeit bietet, die für erweiterte Anwendungsaufgaben erforderlich sind. PLA-501 FA ist ein robustes und zuverlässiges System mit mehreren leistungsstarken Funktionen, darunter ein integrierter Trace-Pattern-Analysator und eine grafische Benutzeroberfläche. Der Trace Pattern Analyzer ermöglicht die Visualisierung der Topographien von Mustern, während die Benutzeroberfläche die Bedienung vereinfacht. Das System hat einen hohen Fotostrom, der eine hochdosierte Belichtung von Photomasken ohne eine damit einhergehende Verzerrung ermöglicht. Dies hilft, hervorragende Ergebnisse bei minimaler Fehlausrichtung und Verzerrung zu erzielen. CANON PLA-501 FA ist darüber hinaus mit einem optionalen On-Axis Digital Protection Element (OPE) Aligner ausgestattet, der eine präzise Ausrichtung des digitalen Schutzelements (OPE) bei der Übertragung von Daten aus IC-Designs auf Wafer-Muster ermöglicht. Dadurch wird sichergestellt, dass Quell- und Zieldaten während des gesamten Photolithographie-Prozesses einwandfrei übertragen werden können. PLA-501FA ist mit einer breiten Palette von Photomasken und Resists kompatibel und kann eine Vielzahl von Photolithographie-Anwendungen verarbeiten. Es verfügt auch über eine intelligente Ausrichtungsfähigkeit, die die Zeit und den Aufwand für die manuelle Ausrichtung reduziert. Insgesamt ist CANON PLA 501FA auf hohe Auflösung und Genauigkeit ausgelegt, was es zu einer idealen Wahl für Lithographieanwendungen macht. Seine robusten Funktionen, leistungsstarken Fähigkeiten und vielfältigen Funktionen machen es zu einem zuverlässigen und hocheffizienten Maskenausrichter für jeden IC-Herstellungsbedarf.