Gebraucht CANON PLA 501 FA #9159256 zu verkaufen

CANON PLA 501 FA ist ein Vollfeldmasken-Aligner, der eine optimale optische Leistung für Mikrofabrikationsanwendungen bietet. Der Masken-Aligner eignet sich zur Strukturierung von Oxidschichten auf verschiedensten Substraten, darunter 3 - 8 Zoll Scheiben, Quarzsubstrate und Glassubstrate. Der Masken-Aligner verfügt über eine allgemeine Ausrichtungsgenauigkeit von ± 0,2 um, feine Pixel-Abstimmung und eine hohe numerische Apertur-Kondensatorlinse, die eine hochpräzise Abbildung der Maske unter Beibehaltung eines hohen Kontrastes ermöglicht. Die 501 FA verfügt über eine auf acht Platten anpassbare automatische Indexierausrüstung, die eine genaue Ausrichtung mehrerer Musterplatten ermöglicht. Die 501 FA ist mit einer hochmodernen digitalen Steuerung ausgestattet, die eine präzise Steuerung der Ausrichtungsparameter ermöglicht. Diese Steuerung verfügt über digitale Musterverschiebungskompensationen und automatische Verschlusskontrolle, die eine genauere Waferbelichtung bei Ausrichtungs- und Lithographieprozessen ermöglicht. Diese digitale Steuerung ermöglicht auch die Einstellung von Prozessparametern wie Fokus, Defokus, Beleuchtung, Belichtung und Wafergeschwindigkeit. Das automatisierte Kalibrier- und Ausrichtungsmerkmal fördert ferner eine präzise und wiederholbare Ausrichtung der Maskenmuster. Die 501 FA ist zudem mit einem hochempfindlichen Bilddetektionssystem ausgestattet, das eine verbesserte Ausrichtung und lithographische Präzision ermöglicht. Dieses Gerät ist in der Lage, auch kleinste Merkmale mit einer Auflösung von 1um oder weniger zu erkennen. Diese Bildaufnahmemaschine bietet einen verbesserten Kontrast, Farbanpassung und Schattensteuerung und ermöglicht eine extrem präzise Musterausrichtung. Der Masken-Aligner ist außerdem mit einem Erbium-Laser zur beleuchtungsfreien Ausrichtung von Musterplatten ausgestattet. Dadurch entfällt die Notwendigkeit einer externen Lichtquelle und gleichzeitig eine verbesserte Produktivität, Wiederholbarkeit und Genauigkeit bei Ausrichtungs- und Lithographieprozessen. Der Erbium-Laser ist auch in der Lage, die Intensität und Wellenlänge des Strahls für einen optimalen Betrieb in verschiedenen Anwendungen genau zu steuern. Der 501 FA ist weiter mit fortschrittlichen automatischen Sicherheitsfunktionen ausgestattet. Zu diesen Merkmalen gehören Stauberkennung, Chip-Heizungssteuerung und automatische Einstellung des Verschlusses für eine verbesserte Sicherheit während des Betriebs. Der 501 FA ist außerdem mit einem 40-Punkte-Autofokus-Tool ausgestattet, das eine verbesserte Bildgebungsleistung bietet und gleichzeitig die Anzahl der erforderlichen manuellen Operationen minimiert. Insgesamt ist CANON PLA-501FA mask aligner eine ideale Lösung für präzise Ausrichtungs- und Lithographie-Prozesse. Dieser vielseitige Vollfeldmasken-Aligner ist in der Lage, die Ausrichtungsparameter genau zu steuern und bietet verbesserte Genauigkeit, Kontrast und Auflösung für verschiedene Arten von Wafer-Herstellungsprozessen. Die automatisierten Funktionen, die Bilderfassung, der Erbium-Laser und die erweiterten Sicherheitsfunktionen fördern die Sicherheit, Effizienz und Wiederholbarkeit bei Mikrofabrikationsprozessen.