Gebraucht CANON PLA 501 FA #9190949 zu verkaufen

CANON PLA 501 FA ist ein hochpräziser Maskenausrichter zur Herstellung von mikroelektronischen Geräten und anderen photolithographischen Anwendungen. Es wird von einem fortschrittlichen Nanopositionierungssystem und hochauflösenden Schrittmotoren angetrieben, die es ermöglichen, Photolithographiemasken schnell und genau auf das Substrat auszurichten. Der Aligner verfügt über eine hohe Ausrichtungsgenauigkeit, mit der Fähigkeit, sich auf +/-2µm oder besser in x- und y-Richtung zu registrieren. CANON PLA-501FA ist mit einer 5 "Bühne ausgestattet, die sich ruhig und schnell bewegt. Es kann eine Substratgröße von bis zu 6 "unterstützen und kommt mit einem automatisierten Substratlader. Es hat ein Gesamtsichtfeld von 5.12 ", was ihm ein beeindruckendes Sichtfeld sowohl für die Ausrichtung als auch für die Belichtung verleiht. Das Sichtfeld wird durch eine Auslesegenauigkeit von 0,01 µm ergänzt. PLA 501FA verfügt über ein optisches Durchgangsobjektivsystem, das berührungslose, kontaktlose und Interferenzausrichtung ermöglicht. Dies ermöglicht eine genaue Ausrichtung auch bei einem Unterschied zwischen Masken- und Wafergrößen sowie variablen Substratdicken. PLA-501FA bietet optimierte Beleuchtungssysteme, die je nach Anwendung eine omnidirektionale Lichtquelle mit geringer Intensität oder einen hochkonzentrierten Spot liefern. Dies ermöglicht eine bessere Ausleuchtung von Substrat und Maske und eine verbesserte Ausrichtungsgenauigkeit. Darüber hinaus verfügt der Maskenausrichter über ein automatisiertes Maskenschiebesystem, das hilft, Makulaausrichtungsfehler zu reduzieren, die bei Belichtungsoperationen auftreten können. CANON PLA-501 FA ist außerdem mit einer patentierten Neuausrichtungstechnologie ausgestattet, die es ermöglicht, das Ausrichtungsbild für die spätere Verwendung zu speichern, wodurch die Ausrichtung leicht wiederholt werden kann. Mit dieser Funktion entfällt auch die Notwendigkeit von manuellen Ausrichtungseinstellungen. Schließlich hat der Masken-Aligner auch eine Reihe von Zubehör zur Verfügung, darunter eine Hochleistungsplattform und zusätzliche Leuchten. Insgesamt ist PLA 501 FA ein zuverlässiger, hochpräziser Maskenausrichter, der die Mikroelektronik-Produktion deutlich effizienter und genauer macht. Es bietet fortschrittliche Funktionen wie optische Ausrichtung, automatisierte Substratbeladung, optimierte Beleuchtungssysteme und Neuausrichtungstechnologie, was es zu einer großartigen Option für Photolithographie-Operationen macht.