Gebraucht CANON PLA 501 FA #9226307 zu verkaufen

CANON PLA 501 FA ist ein Masken-Aligner für die Photolithographie integrierter Schaltungen. Es wird bei der Herstellung von Leiterplatten (Leiterplatten) und anderen gedruckten Materialien verwendet. CANON PLA-501FA ist speziell für den Einsatz in Wafer-Verpackungen konzipiert und umfasst eine hochauflösende bildgebende Ausrüstung, einen Hochgeschwindigkeits-Laser und einen Präzisionsausrichtungsmechanismus. PLA 501FA verwendet fortschrittliche Photolithographie-Technologie, um komplizierte Muster auf der Oberfläche von Substraten wie Leiterplatten (Leiterplatten) genau zu erstellen. Das System verwendet eine Dual-Source-Lasereinheit, um ein hochauflösendes Bild des Substrats zu erzeugen, das dann automatisch auf die vorgemusterte Platine ausgerichtet wird. Dies ermöglicht eine präzise Platzierung von Komponenten und Bahnen auf der Leiterplatte, was zu einem höheren Durchsatz und reduzierten Zykluszeiten führt. PLA-501 FA verfügt über eine hochpräzise Stage-Up Dual X/Y-Stufe, die einen Hochgeschwindigkeitsbetrieb und eine präzise Ausrichtung bei einer Platzierungsgenauigkeit von mindestens 0,6 Mikrometern ermöglicht. Die Maschine ist außerdem mit einem Laserautofokus und einem automatischen Belichtungswerkzeug ausgestattet, um eine gleichmäßige Strukturierung über das gesamte Substrat zu gewährleisten. PLA 501 FA verfügt auch über eine voll funktionsfähige grafische Benutzeroberfläche (GUI), mit der Benutzer Muster einfach entwerfen, anpassen, speichern und bearbeiten können. Das macht das Gut ideal für Produktionslinien und die Chargenverarbeitung. Die integrierte Netzwerkschnittstelle ermöglicht auch mehreren Benutzern den Fernzugriff auf das Modell. CANON PLA-501 FA ist mit Blick auf die Sicherheit konzipiert und enthält eine äußerst zuverlässige Sicherheitsausrüstung, um die Arbeitnehmer vor übermäßiger Laserbelastung zu schützen. Das System umfasst auch eine integrierte staubdichte und Abgasanlage zur Minimierung der Staubansammlung. Insgesamt ist PLA-501FA eine fortschrittliche Photolithographie-Maschine, die für hochpräzise Leiterplattenmuster und Wafer-Verpackungen entwickelt wurde. Der Laserautofokus und das automatische Belichtungswerkzeug sorgen für eine gleichmäßige Strukturierung über das gesamte Substrat, während die intuitive grafische Benutzeroberfläche ein einfaches Musterdesign und eine einfache Anpassung ermöglicht. Das integrierte Sicherheits- und Abgasmodell sorgt für eine sichere Arbeitsumgebung.