Gebraucht CANON PLA 501 FA #9328963 zu verkaufen
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ID: 9328963
Wafergröße: 5"
Mask aligner, 5"
Gases:
N2:
Maximum pressure: 3.5 kg/cm²
Maximum flow: 10 LPM
Pipe: SUS316
Connector: SWAG
Caliber inch: 1/4"
CDA
Vacuum
Mercury lamp: 250 W
Wafer exposure, 5"
Ground: 1 ohm
Manual included
Power supply: 220 V, Single phase, 3-wires, 1.6 A
Lamp power supply: 110 V, Single phase, 3-wires, 5.5 A.
CANON PLA 501 FA ist ein Masken-Aligner, der für den Einsatz in optoelektronischen Geräteherstellungsanwendungen im Nanometermaßstab entwickelt wurde, z. B. bei Leuchtdioden (LEDs), Lasern und Photovoltaik (PVs). Es handelt sich um eine vielseitige Maschine, mit der sich hochauflösende Muster in Photomasken präzise ausrichten, organische Materialien ausrichten und in gewünschte Formen ätzen lassen. CANON PLA-501FA verwendet eine Kombination aus mechanischen und optischen Komponenten für überlegene Genauigkeit und Präzision in den Ausrichtungs- und Überlagerungsprozessen. Es enthält eine hochpräzise, motorisch angetriebene x-y-Stufe zur Ausrichtung der Maske auf dem Substrat und eine Laserdiodenlichtquelle zur Erfassung der Flanke und Überlagerung der Photomasken. Ein CCD-Bildgebungsgerät ermöglicht es dem Bediener, Ausrichtungs-, Overlay- und Ätzoperationen mit Leichtigkeit durchzuführen. Zusätzlich zu den Abbildungsmöglichkeiten ist die Maschine mit einem Paar Vakuumfutter ausgestattet, die es dem Bediener ermöglichen, das Substrat auf der x-y-Stufe zu sichern, und einem höhenverstellbaren Freiraumausrichtungspaket, das die exakte Positionierung der Fotomaske ermöglicht. PLA 501FA bietet durch seinen 0,35 μ m Scanner hochauflösende Muster und kann mit 1,5 m/s scannen. Es verfügt außerdem über einen optischen Zoom, der Vergrößerungsfaktoren von bis zu 1,000X ermöglicht, was präzise Ausrichtungs- und Ätzoperationen ermöglicht. Schließlich ist die Maschine mit Kalibrier- und Testdiagrammen ausgestattet, die es dem Benutzer ermöglichen, sicherzustellen, dass die Maschine genau und mit der richtigen Auflösung arbeitet. PLA-501FA ist eine ausgezeichnete Wahl für optoelektronische Geräteherstellungsanwendungen. Die Kombination aus Präzision, Geschwindigkeit und Genauigkeit eignet sich besonders gut für den anspruchsvollen Prozess der Herstellung von Nanometergeräten. Dank seiner Vielseitigkeit kann es auch für eine Reihe anderer Anwendungen wie Mikroätzen und der Herstellung organischer und anorganischer Materialien verwendet werden.
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