Gebraucht CANON PLA 501 #293644255 zu verkaufen

CANON PLA 501 ist eine High-End-Fotolithographiemaske aligner verwendet für die Herstellung von Halbleiteroblaten. Es ist eine kostengünstige Lösung für Kunden, die mehrere Masken schnell und präzise ausrichten und übertragen müssen. CANON PLA-501 hat eine maximale Feldgröße von 25mm x 25mm und bis zu 13 Musteröffnungen. Das Design bietet eine minimale Linienbreite von 1 um mit 0,5 um Eigenschaften an Geräten möglich. Es hat auch eine Ausrichtgenauigkeit von 0,25 um und einen Durchsatz von bis zu 20 Wafern pro Stunde. Das System ist auch mit einem fortschrittlichen optomechanischen Design ausgestattet, das die genaue Positionierung und Steuerung der Maskenfeldgröße und der Musteröffnungen ermöglicht. PLA 501 verfügt über zwei leistungsstarke Hochleistungs-Laserquellen, die Linien- und Abbildungsstrahlen erzeugen. Das Airbearingsystem und die hochpräzisen optischen Linsen garantieren eine hohe Qualität des Maskenöffnungsprofils. Sie beseitigen auch die Rätselraten und Fehler, die durch manuelle Ausrichtung und Manipulation verursacht werden. PLA-501 ist auch mit einer Maskenvorverarbeitungsstation zur Qualitätskontrolle des Musters und zur Maskenevakuierung ausgestattet. Es bietet auch automatische Kontrolle und Rückmeldung, die es einfach macht, die Qualität des Musters und die richtige Ausrichtung während der Herstellung sicherzustellen. Insgesamt ist CANON PLA 501 Maske Aligner ein effizientes und zuverlässiges Werkzeug, das den photolithographischen Anforderungen der Halbleiterhersteller gerecht wird. Seine hohe Präzision und hervorragende Leistung sowie seine Erschwinglichkeit machen es zum perfekten Werkzeug für jede Einrichtung, die mehrere Masken schnell und präzise ausrichten und übertragen muss.