Gebraucht CANON PLA 501 #293758566 zu verkaufen

CANON PLA 501 ist ein Masken-Aligner für die automatisierte Photolithographie von Wafern. Das Gerät verfügt über eine zweistufige Projektionsausrüstung, die eine hochwertige Strukturierung mit einem großen Sichtfeld von 700 mm x 300 mm bietet. Dieses zweistufige System bietet eine schnelle, energiesparende Ausrichtung, wodurch die Zeit und Kosten für die Durchführung der Photolithographie reduziert werden. Das Gerät verfügt zudem über eine kontrastreiche Projektionseinheit mit hervorragender Auflösung. CANON PLA-501 verfügt über eine hochmoderne Optikmaschine, die eine 6fache Vergrößerung und einen Laser NX90 Ausrichtungsstrahl mit einem Näherungssensor für eine hochgenaue Musterausrichtung bietet. Die automatisierte Photolithographie wird durch die CCD-Kamera des Werkzeugs ermöglicht, die die Position des Wafers während der Belichtung verfolgt. Es enthält auch ein Auto-Fokus-Asset, das die Position des Musters auf dem Wafer anpassen kann, wenn sich das Substrat bewegt oder verformt. Das Gerät ist zudem mit einem hochgenauen, hochauflösenden Abbildungsmodell ausgestattet, das günstige Ergebnisse für die Photolithographie gewährleistet. Dies wird mit einer 6 „-Scheibenstufe, einer 9“ -Maskenstufe und einer XYZ-Hochpräzisionsscheibenstufe mit einer Fahrgeschwindigkeit von 8 um/sec erreicht. Seine ± 45 ° freien Neigungsfunktionen ermöglichen es Anwendern, großflächige Lithographie mit unterschiedlichen Winkeln auf demselben Substrat durchzuführen. PLA 501 verfügt zudem über eine zuverlässige Ausrichtungs- und Übertragungsgenauigkeit mit den kombinierten Merkmalen seiner fortschrittlichen Musterausrüstung und seines bildgebenden Systems, mit dem Benutzer Muster präzise und effizient entwickeln können. Das Gerät bietet auch eine Umgebung, die freundlich mit dem Entwicklungsprozess ist. Die Wartung, die einen minimalen Aufwand erfordert, wird durch einen aktiven Wartungszähler gewährleistet, der alarmierend die Servicedaten überwacht. PLA-501 ist eine All-in-One-Fotolithographie-Maschine für die Verarbeitung auf Waferebene. Seine nützlichen Anwendungen und sein geeignetes Design machen es zu einer idealen Plattform für eine breite Palette von Forschungs- und Industrieanwendungen wie Mikroelektronik, MEMS, Halbleiter oder Schaltungsaufbereitung und Biotechnologie.