Gebraucht CANON PLA 501 #9004050 zu verkaufen

CANON PLA 501 ist ein fortschrittlicher Maskenausrichter zur Unterstützung von Prozessen, die für die Herstellung elektronischer Geräte unerlässlich sind. Speziell für photolithographische Prozesse konzipiert, spielt CANON PLA-501 eine entscheidende Rolle bei der Herstellung von integrierten Halbleiterschaltungen und anderen Komponenten von mikroelektronischen Bauelementen. PLA 501 ist mit mehreren Funktionen zur Optimierung des Maskenausrichtungsprozesses ausgestattet. Der Maskenausrichter verfügt über eine Wafer-Bühnenplatte mit automatisierter Vakuumsaugung, die eine präzise Ausrichtung von Wafern für die Lithographie erleichtert. Dies ist gekoppelt mit einem erstklassigen digitalen Bildgebungsgerät, das die Maske beleuchtet, um ein Bild der Maskenmuster zu erfassen. Das bildgebende System verwendet eine hochauflösende CCD-Kamera, die Muster mit einer Auflösung von bis zu 0,5 μ m aufnehmen kann. PLA-501 verfügt auch über eine vollautomatische Fokuseinstelleinheit, die den Fokus der optischen Quelle an den des zu verarbeitenden Wafers anpasst. Diese Maschine ermöglicht es Anwendern, die Fokusqualität während des Lithographieprozesses zu überwachen und reproduzierbare Ausrichtungsgenauigkeit und höchste Auflösung der Produktion zu erzielen. Der Maskenausrichter verfügt auch über Musterausrichtung und Rotation für Aberrationen und andere Vorkommnisse, die das Bild der Maskenmuster stören könnten. Neben diesen Funktionen bietet CANON PLA 501 auch eine Reihe automatisierter Prozessoptionen für mehr Effizienz und Produktivität. Anwender können aus einem automatisierten chemischen Beschichtungsverfahren wählen, das chemische Gleichmäßigkeit und verbesserte Hafteigenschaften bietet, sowie einer automatisierten Antireflexbeschichtung, die aerodynamische Störungen reduziert. Darüber hinaus bietet CANON PLA-501 viele Prozessoptionen wie Laser-Direktschreiben und Elektronenstrahl-Direktschreiben, die hochpräzise Muster- und Ätzprozesse ermöglichen. Insgesamt ist PLA 501 ein fortschrittlicher Maskenausrichter, der entwickelt wurde, um die Ausrichtung von Maskenmustern intelligent zu verwalten und ihre Bilder in den photolithographischen Prozessen zu reproduzieren. Der Masken-Aligner bietet verschiedene automatisierte Prozesse und eine hervorragende Auflösung, so dass Anwender mit ihrer Produktion die höchste Genauigkeit und Präzision erreichen können.