Gebraucht CANON PLA 501 #9301351 zu verkaufen

CANON PLA 501 ist ein Desktop-Maske-Ausrichter mit einem einzigartigen, kostengünstigen und einfach zu bedienenden Design. Das Produkt bietet aufgrund seiner hohen räumlichen Genauigkeit und Genauigkeitskontrolle eine hervorragende und wiederholbare Lithographieleistung. Das Gerät verfügt über automatische Ausrichtungs- und Wafer-Handhabungsfunktionen, so dass Benutzer Zeit und Kosten im Zusammenhang mit optischer Lithographie reduzieren können. CANON PLA-501 verfügt über ein hochauflösendes, energiereiches und verzerrungsarmes Erkennungssystem, das eine genaue Ausrichtung und Definition auf Masken- und Waferebene ermöglicht. Das Gerät wird von CANON proprietärer, gepulster Lasertechnologie angetrieben und kann mehrere Belichtungen in einem Arbeitsgang durchführen. Die Maschine verwendet eine Reihe von Pulsbreiten und -intensitäten, um die Maske oder den Wafer exakt freizulegen. Die einzigartige Laseranordnung sorgt für eine gleichmäßige Belichtung über die Maske oder den Wafer. Dies fördert optimale Ergebnisse mit weniger Artefakten. Das Werkzeug verwendet ein zweistufiges Belichtungsverfahren zur Verbesserung der Belichtungsverteilung und Fokussierung. Die erste Stufe ist ein Ausrichtungsverfahren, das das Maskenmuster schnell und genau erkennt. In der zweiten Stufe wird eine optimale Dosis und Exposition auf das Substrat aufgebracht. Dadurch wird sichergestellt, dass das Muster konsequent auf das Substrat übertragen wird. Das Asset umfasst fortschrittliche Software, die Belichtungsparameter optimieren kann, um die Präzision und Wiederholbarkeit weiter zu verbessern. Die Software ermöglicht auch einen hohen Durchsatz und effiziente Leistung durch die Integration mehrerer Werkzeuge, wie Ausrichtungsüberprüfung, automatisierte Belichtungsoptimierung und Messrückkopplungskontrollen. Die Software ist einfach zu bedienen und kann in jeder Sprache betrieben werden. PLA 501 hat eine Vielzahl von Funktionen, die es ideal für Grundlagenforschung und kommerzielle Anwendungen machen. Das Modell kann eine breite Palette von Anwendungen bewältigen, einschließlich Lithographie auf einer Vielzahl von Substraten. Das einzigartige Design und die benutzerfreundliche Funktionalität machen es zu einer ausgezeichneten Option für jedes Labor.