Gebraucht CANON PLA-501E #9392307 zu verkaufen

Hersteller
CANON
Modell
PLA-501E
ID: 9392307
Mask aligner.
CANON PLA-501E Mask Aligner ist ein branchenführendes Produktionswerkzeug für Mikrofabrikation und Halbleiterprozesse. Es ist eine vollautomatische Photolithographie-Ausrüstung, die für die hochpräzise Ausrichtung und Belichtung von Photomasken in der Produktionsumgebung entwickelt wurde. PLA-501E ist eines der genauesten und zuverlässigsten Photolithographiesysteme auf dem Markt, das außergewöhnliche Leistung und hervorragende Ergebnisse liefert. CANON PLA-501E verfügt über ein Präzisionsausrichtungssystem, das eine hochgenaue Ausrichtung von Wafern auf Photomasken ermöglicht. Es verwendet Zwei-Achsen-Positionierungstechnologie, um eine präzise Ausrichtungsfähigkeit von Wafer und Photomaske zu gewährleisten und eine schnelle und hochpräzise Ausrichtung beider Teile zu gewährleisten. Darüber hinaus enthält PLA-501E eine hochauflösende Kamera zur Erkennung von Ausrichtungsfehlern und zur Bereitstellung von Echtzeit-Feedback zur Anpassung und Verbesserung der Ausrichtungsgenauigkeit. Das fortschrittliche Photomasken-Positionierungsmodul von CANON PLA-501E bietet eine hochpräzise Ausrichtung der Photomasken-Komponenten für eine für ein Produktionswerkzeug außergewöhnlich hohe Genauigkeit. Die eingebaute Steuereinheit bietet auch Echtzeit-Feedback, um alle Parameter auf optimale Leistung zu überprüfen. Dadurch wird sichergestellt, dass die Leistung gleichbleibend hochwertig und in hohem Maße reproduzierbar ist. Mit seiner hochpräzisen Belichtungsmaschine bietet PLA-501E eine hervorragende Wiederholbarkeit und Reproduzierbarkeit von Photomaskenmustern in Gleichmäßigkeit und Treue. Es ist auch in der Lage, eine hohe Bypass-Exposition von bis zu 10 Sub-Mikron-Leitungen. CANON PLA-501E ist mit einem erstklassigen automatisierten Wafer-Handhabungswerkzeug ausgestattet, das ein schnelles und zuverlässiges Be- und Entladen von Wafern ermöglicht. Die Anlage ist hocheffizient und bietet eine sichere Handhabung des Wafers ohne Qualitätsrisiken. Darüber hinaus bietet PLA-501E eine Reihe integrierter Prozesssteuerungen, um eine einheitliche Leistung während des gesamten Produktionsprozesses zu gewährleisten. Das Modell entspricht auch den neuesten Industriestandards und bietet exzellente Flexibilität und Skalierbarkeit. CANON PLA-501E ist eine industrielle Photolithographie-Plattform, die ein hohes Maß an Genauigkeit, Genauigkeit und Skalierbarkeit bietet. Es ist eine ideale Wahl für Produktionsumgebungen, die präzise, zuverlässige und hochwertige Mikrofabrikationsprozesse erfordern.
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