Gebraucht CANON PLA 600 FA #151689 zu verkaufen

CANON PLA 600 FA ist ein Masken-Aligner für präzise Photolithographie auf Mikro- und Nanoskala. Es ist ein hoch fortgeschrittener, computergesteuerter Wafer-Stepper mit einer Reihe von Funktionen, die es für eine Vielzahl von Anwendungen geeignet machen. Der Masken-Aligner verfügt über eine Bühne mit einer Xenon-Lampe, einem Scanner und einer 6 "runden Glasplatte. Die Bühne ist entworfen, um eine Vielzahl von Substraten von 200mm Wafern zu Petrischalen zu behandeln. Scanner und Lampe sind mit einem automatisierten Präzisions-X-Y-Antrieb zur präzisen Positionierung verbunden. Die Bühne ist mit einer Brennweite von 5-400 mm und einer nicht-manuellen Fokusüberlagerung ausgestattet. Der Fokusabstand und die Fokusüberlagerung zusammen ermöglichen eine x-y-Einstellung der Optik, um eine exakte Winkelplatzierung des Substrats zu erreichen. CANON PLA-600FA kann mehrere Masken exakt gleichzeitig auf einem einzelnen Wafer positionieren und ausrichten. Die Masken werden in den Maskenleser gelegt, der auf einen Einzel- oder Dual-Modus eingestellt werden kann. Der Leser, der von einem Mikroschrittmotor angetrieben wird, liest und speichert die Maskenorientierung, so dass der Bediener die Masken genau auf den Wafer legen kann. Das System ist auch mit Speicherplatz ausgestattet, so dass der Bediener bis zu drei Maskenorientierungseinstellungen für die zukünftige Verwendung speichern kann. Das fortschrittlichste Merkmal des Maskenausrichters ist seine rückseitige Ausrichtung, die eine präzise Steuerung der Multimaskenorientierung auf bedruckten Substraten ermöglicht. Die rückseitige Ausrichtung ermöglicht auch die Fernsteuerung des Waferschrittes, wodurch ein manueller Eingriff entfällt. PLA 600FA bietet auch integrierte Software, die es dem Bediener ermöglicht, die Ausrichtung der Mehrfachmasken präzise zu verfolgen und zu pflegen. Die Software bietet auch mehrstufige Steuerungsoptionen, die eine präzise Feinabstimmung der Maskenausrichtung ermöglichen. Insgesamt ist CANON PLA 600FA ein fortschrittlicher, hochflexibler Maskenausrichter, der außergewöhnliche Genauigkeit und Kontrolle für Anwendungen im Mikro- und Nanoskala bietet. Es ist ein leistungsfähiges Werkzeug zum Drucken von Lithographie, das Anwendern eine Reihe von Funktionen bietet, um ihre spezifischen Anforderungen zu erfüllen.