Gebraucht CANON PLA 600 FA #9026887 zu verkaufen

CANON PLA 600 FA Maske Aligner ist eine hochpräzise Photolithographie-Ausrüstung, die bei der Herstellung integrierter Halbleiterschaltungen verwendet wird. Es ist für die Einfachheit der Verwendung und höchste Genauigkeit konzipiert und unterstützt eine breite Palette von Substraten von 180mm bis 200mm in der Größe. Das System erreicht eine hohe Genauigkeit durch Verwendung eines präzisen Lasermustergenerators, der auf derselben X-Y-Stufe wie das Substrat montiert ist. Dadurch ist eine Ausrichtung über das gesamte Substrat möglich. Es ermöglicht auch eine globale Verschiebung und hochpräzise Anpassung der Mustergröße auf allen Substraten. Die Maskenausrichtung und -belichtung wird mit einer hochwertigen Scanning Ion Beam (SIB) -Technik erreicht, die das Gleichgewicht zwischen Overlay-Genauigkeit und Durchsatz optimiert. Die Einheit verwendet eine Beugungsmaske, um die erforderliche Ausrichtung und Belichtung in einem einzigen Lauf zu erreichen und enthält einen Pulslaserleistungsregler für viel schärfere Merkmale auf der Oberfläche des Substrats. Eine fortschrittliche optische Sensormaschine ist integriert, um eine direkte Ausrichtungsgenauigkeit von 1 μ m und eine Überlagerungsgenauigkeit von 2 μ m zu gewährleisten. Das Tool verwendet auch verschiedene fortschrittliche Technologien, um Fotoresistenzfilme in einem Bruchteil der Zeit zu verarbeiten, die traditionelle Methoden erfordern. Dies umfasst eine fortschrittliche ultraviolette Lichtquelle mit einem einstellbaren Verschlusselement für eine genaue Belichtungssteuerung; und ein Mehrpunkt-Strahlabtastmodell zur automatischen Einstellung und zum Autofokus. Das Gerät ist mit einer Reihe von digitalen Automatisierungsfunktionen wie FOUP (Front Opening UNPlease) -Lader für maximale Transportmöglichkeiten integriert; eine automatische Neigung/Verschiebung, um Neigung & Verschiebung für die Musterreproduzierbarkeit anzupassen; und eine Düsenzentriervorrichtung zum Ändern von Prozessumgebungen. CANON PLA-600FA eignet sich hervorragend für die Herstellung von hochdichten und Halbleiterbauelementen mit Eigenschaften wie erweiterten programmierbaren Belichtungen. Das System liefert hochgenaue Ergebnisse und einen schnellen Turnaround, reduziert die Produktionszeit und steigert die Produktivität.