Gebraucht CANON PLA 600 FA #9030686 zu verkaufen

CANON PLA 600 FA Maske Aligner ist eine High-End-Ausrichtungsoptik. Es ist für Wafer-Level-Lithographie-Prozesse konzipiert und ist in der Lage, genaue Ausrichtung und Musterung mit +/- 5 Mikrometer Genauigkeit. Das System eignet sich ideal für Anwendungen in der Halbleiterindustrie wie Chip-Strukturierung, Verpackung, MEMS und optische Komponenten. Die Anordnungseinheit zeigt ein volles Feld ADC-8-Kanäle-Bildanschaffungsmaschine. Dieser Sensor hat eine extrem hohe Auflösung und hohe Empfindlichkeit, so dass er Details auch in Bildern mit niedrigem Kontrast oder hoher Modulation aufnehmen kann. Das Werkzeug verfügt über ein weites Sichtfeld, das Weitwinkelbelichtung und Bildgebung ermöglicht. Es verfügt auch über eine hohe Durchsatzfähigkeit, die eine automatisierte Produktion mit hohen Stückzahlen ermöglicht. CANON PLA-600FA Mask Aligner verfügt über eine Spaltfeld-optische A-Achse, die eine präzise zweidimensionale Strukturierung der gemusterten Bereiche ermöglicht. Diese A-Achse dient zur Steuerung der Maskierungs-, Ausrichtungs- und Ätzprozesse. Es wird auch verwendet, um das Ätzmuster genau zu definieren und die Genauigkeit bei jedem Prozess zu gewährleisten. Das Gerät ist mit einer CCD-Kamera und einem Spektralfilter ausgestattet, mit dem die Ausrichtungsmerkmale der Maske genau erkannt werden können. Die Ausrichtung wird durch Berechnung der Differenz zwischen Maskenmuster und Wafermuster erreicht. Das Modell verfügt auch über eine automatisierte Laser-Erkennung Ausrüstung, die die wahre Mitte der Maske erkennt, bietet genaue und wiederholbare Musterung ohne manuelle Anpassungen. Das System kann eine Vielzahl von Ausrichtungsmustern wie quadratische, kreisförmige und sechseckige Muster erzeugen. Es hat auch einen hochpräzisen Mikroschrittmotor, der genaue und wiederholbare Bewegungen der Ausrichtungsmerkmale gewährleistet. Darüber hinaus verfügt PLA 600FA Mask Aligner über einen Schrittmotorregler, der eine präzise vertikale und horizontale Ausrichtung der Strukturierung ermöglicht. Mit CANON PLA 600FA Mask Aligner erhalten Sie eine High-End-Optik für Wafer-Level-Lithographie-Prozesse. Es bietet eine hohe Genauigkeit und Wiederholbarkeit, die es ideal für die Serienproduktion machen. Es bietet auch die Flexibilität, eine Vielzahl von Ausrichtungsmustern zu erstellen und verfügt über eine CCD-Kamera und Laser-Detektionsmaschine für Präzisionsausrichtung.