Gebraucht CANON PLA 600 FA #9148245 zu verkaufen

CANON PLA 600 FA ist ein hochpräziser Maskenausrichter, der für den Einsatz in fortschrittlicher Lithographietechnologie entwickelt wurde. Es verfügt über eine sehr hohe Genauigkeit, die eine präzise Strukturierung über einen breiten Bereich gewährleistet. Dies ermöglicht es dem Anwender, gewünschte Designs zu erzielen, ohne die Auflösung der Fotomaske zu erhöhen. Der Masken-Aligner arbeitet im Bereich von 355 bis 420 nm und hat eine große Feldgröße von 600 mm. Es verfügt auch über eine hochauflösende Vergrößerung von 1x bis 16x. Der Maskenausrichter kann eine Ausrichtung in der Größenordnung von einem Mikron durchführen, die für die Herstellung von Submikron-Merkmalen erforderlich ist. Der Scanner verfügt über eine eingebaute Luftlagerstufe mit einer Auflösung von 0,8 Mikrometern und einer Wiederholbarkeit von 0,1 Mikrometern. Diese Stufe soll eine präzise Ausrichtung der Maske auf den Wafer gewährleisten. Es ist auch mit einer hochauflösenden CCD-Kamera ausgestattet, die eine Pixelgröße von 5 μ m und eine seitliche Auflösung von 4 μ m hat. Die CCD-Kamera verwendet Homodyn-, Autokorrelations- und Gradiententechniken, um die Ausrichtungsgenauigkeit zu gewährleisten. Der Masken-Aligner ist auch mit einer Actinictm-Wafer-Bühne ausgestattet. Diese Stufe hat eine Vergrößerung von 5x mit einer 10-Mikron-Stufenauflösung und einer Wiederholbarkeit von 1 Mikron. Darüber hinaus verfügt der Scanner über ein Strahlabtastsystem, das ein schnelles und stabiles Scanprofil ermöglicht. CANON PLA-600FA Maske Aligner ist auch mit Software ausgestattet, die seine Fähigkeiten verbessert. Das LexEco Toolkit dient zur Verwaltung verschiedener Parameter wie optimale Belichtungszeit und Dosis. Dadurch wird sichergestellt, dass der Aligner über die notwendigen Parameter für die korrekte Datenerfassung und -analyse verfügt. Es verfügt auch über Fehlererkennung, Wafer-Mapping und Entfernungsmessung Funktionen. PLA 600FA mask aligner ist ein hochpräzises Instrument für die Lithographietechnik. Seine Genauigkeit und Auflösung machen es eine gute Wahl für Sub-Mikron-Feature-Produktion. Die eingebauten Luftlager und die Waferstufe sorgen für eine konsequente Ausrichtung der Maske auf den Wafer und zusätzliche Software und Funktionen machen den Aligner für viele spezifische Aufgaben geeignet.