Gebraucht CANON PLA 600 FA #9226487 zu verkaufen

CANON PLA 600 FA
Hersteller
CANON
Modell
PLA 600 FA
ID: 9226487
Wafergröße: 6"
Weinlese: 1990
Steppers, 6" 1990 vintage.
CANON PLA 600 FA ist ein Masken-Aligner, ein Instrument für Halbleiterlithographieverfahren. Es wird verwendet, um Muster von einer Photomaskenschablone auf die Oberfläche eines Substrats zu übertragen. Das Instrument verwendet ultraviolettes Licht einer Laserquelle, um die Photomaske vor der Übertragung des Musters auf dem Substrat genau auf das Substrat auszurichten. Dieses Instrument hat eine relativ große Arbeitsfläche mit einer Grundbreite von 600mm und einem maximalen Substratdurchmesser von 450mm. Es hat eine hochgenaue Höhenverstellung mit einer Auflösung von 0,1 Mikrometern und einer Z-Wiederholbarkeit von 0,5 Mikrometern. Es kommt auch mit einem Wafer-Indexiersystem und einer Autofokus-Funktion, die eine genaue Ausrichtung zwischen der Photomaske und dem Substrat ermöglicht. In Bezug auf Echtzeit-Hochgeschwindigkeitssteuerung verfügt CANON PLA-600FA über ein automatisches Mustersuchsystem, das es ermöglicht, große Proben von oben nach unten zu scannen, um die erforderlichen Muster zu identifizieren. Dieses System ermöglicht es dem Benutzer, die Suchzeit für große On-Chip-Geräte oder großflächige Gitter zu reduzieren. Weitere Merkmale sind ein automatischer Belichtungszeitgeber und ein verbessertes Lichtprojektionsmodul, das konsistentere und zuverlässigere Ergebnisse ermöglicht. Hinsichtlich der Sicherheitsleistung erfüllt PLA 600FA alle aktuellen Industriestandards in Bezug auf Staubschutz und antistatische Maßnahmen. Es ist auch für einfache Wartung und einfache Bedienung konzipiert, ausgestattet mit manuellen und automatischen Betriebsarten. Insgesamt eignet sich PLA-600FA gut für Lithographieverfahren in der Halbleiterindustrie und liefert präzise und zuverlässige Ergebnisse auf sichere und effiziente Weise. Mit seinem großen Arbeitsbereich, der hochgenauen Höhenverstellung, der Hochgeschwindigkeitskontrolle in Echtzeit und einer Reihe von Sicherheitsmerkmalen ist es ein vielseitiges und zuverlässiges Instrument, das für eine Vielzahl von Lithographieverfahren eingesetzt werden kann.
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