Gebraucht CANON PLA 600 #293655815 zu verkaufen

Hersteller
CANON
Modell
PLA 600
ID: 293655815
Wafergröße: 6"
Weinlese: 2012
Mask aligner, 6" Non SMIF type Main body Control rack Mercury lamp Part box 2012 vintage.
CANON PLA 600 ist ein Masken-Aligner, der zur Herstellung von Wafern in der Halbleiterindustrie verwendet wird. Diese Maschine ist für die Positionierung, Ausrichtung und Belichtung von Photomaske und Wafer unter Optik ausgelegt. Es eignet sich sowohl für den Einsatz mit binären Masken als auch mit abgeschwächten, abgeschwächten, phasenverschobenen Masken (PSM). Die Vorrichtung besteht aus einem adaptiven Stepper, einer druckgesteuerten Belichtungsplattform und einer servogesteuerten Z-Achsen-Stufe. PLA 600 verfügt über einen beweglichen Stepper, der für verschiedene Mikrofertigungsprozesse wie optische Belichtung, Abscheidung, Lithographie, Ätzen und andere Prozesse konfiguriert werden kann. Zusätzlich kann das Gerät bis zu 1024 gescannte Bilder speichern. Die druckgesteuerte Belichtungsplattform von CANON PLA 600 ermöglicht eine gleichmäßige Druckkontrolle während des gesamten Belichtungsprozesses, um eine genaue Positionierung von Masker und Wafer zu gewährleisten. Die Druckeinstellfunktion sorgt für eine gleichmäßige Belichtungskante. Die Z-Achsen-Stufe von PLA 600 ist so konzipiert, dass Masker und Wafer in die für die Belichtung optimale Position gebracht werden. Die Bühne ist auch so ausgelegt, dass sie den Masker exakt mit dem Wafer ausrichtet und eine überlegene Registrierung des zu belichtenden Bildes ermöglicht. Die Bühne ist auch entworfen, um den Masker und den Wafer genau zu bewegen, um die Belichtung auf der Zieloberfläche des Wafers zu gewährleisten. CANON PLA 600 wird über eine grafische Benutzeroberfläche betrieben, die Systemmonitore, Einstellung, Bildanzeige und eine Vielzahl weiterer Funktionen umfasst. Die Maschine hat auch eine Reihe von Sicherheitsmerkmalen wie ein Selbstausrichtungssystem, Not-Aus-Taste und Schutzabdeckungen, um Körperverletzungen zu verhindern. PLA 600 ist in der Lage, Masker und Wafer exakt zu positionieren und auszurichten, um Genauigkeit und Effizienz im Mikrofabrikationsprozess zu gewährleisten. Das Gerät ist zuverlässig, einfach zu bedienen und bietet eine präzise und gleichmäßige Belichtung über den Wafer. Die Zeitersparnis und die gesteigerte Produktivität sorgen für einen attraktiven Return on Investment.
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