Gebraucht CANON PLA 600 #293660393 zu verkaufen

Hersteller
CANON
Modell
PLA 600
ID: 293660393
Wafergröße: 6"
Mask aligner, 6" Non-SMIF type Main body Control rack Mercury lamp power supply Parts box Alarm unit.
CANON PLA 600 ist ein Maskenausrichter, der speziell für die optische Näherungskorrektur von Photomaskenmustern für die Halbleiterindustrie entwickelt wurde. Es ist ein vollautomatisches, hochpräzises Werkzeug, das eine schnelle und genaue Maskenausrichtung mit einer Wiederholbarkeit ermöglicht, die von jeder herkömmlichen Lithographieausrüstung unübertroffen ist. PLA 600 verwendet ein lineares Bewegungsantriebssystem, das eine hochauflösende Steuerung und Genauigkeit für die Maskenausrichtung bietet. Die Ausrichtungsgenauigkeit beträgt 0,12 µm (6sigma) für den XY-Modus und 0,20 µm (6sigma) für den Winkelmodus. Dadurch wird sichergestellt, dass die auf der Photomaske gebildeten Muster genau mit den Mustern auf dem Retikel übereinstimmen, um die gewünschte optische Näherungskorrektur zu erreichen. CANON PLA 600 wird auch mit einem leistungsfähigen Softwarepaket geliefert, das eine vollständige Automatisierung des Maskenausrichtungsprozesses und erweiterte Funktionen zur präzisen Steuerung des Prozesses bietet. Die Software unterstützt eine Vielzahl von Mustern und kann zur Optimierung von Prozessparametern wie Belichtungszeit, Fokusposition usw. für eine optimale Maskenausrichtung verwendet werden. Die PLA 600 ist zudem mit einem hochpräzisen und automatisierten Positioniersystem ausgestattet, das es ermöglicht, Retikel in einem Bruchteil der Zeit, die sie für die manuelle Ausrichtung benötigt, exakt auszurichten. Dadurch wird sichergestellt, dass die Photomaskenmuster mit minimalem menschlichen Input exakt ausgerichtet sind. Schließlich hat CANON PLA 600 eine lange Lebensdauer und ist damit eine ideale Option für langfristige Produktionsläufe. Das Werkzeug wurde entwickelt, um die engen Toleranzen und Standards moderner Halbleiterproduktionsprozesse zu erfüllen und ist für bis zu 10 Jahre Dauereinsatz ohne Probleme ausgelegt. Dies macht es zu einer zuverlässigen und kostengünstigen Wahl für die Ausrichtung von Halbleitermasken.
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