Gebraucht CANON PLA 600F #293830592 zu verkaufen

Hersteller
CANON
Modell
PLA 600F
ID: 293830592
Wafergröße: 2"-6"
Mask aligners, 2"-6" Photo mask size: 2.5", 4", 5", 6", 7" Illuminator: Lamp: 250W super high pressure mercury lamp Uniformity: +/-3% / D150 mm Exposure time setting: Light integration method (Switch setting from 0.1 to 59.9) Exposure time: 5 sec for positive resist (AZ 1470), 2 sec for negative resist (OMR 83, using, ND-50 filter) Alignment scope: Objective lens: 10x (5 x, 20 x) Zoom erector: 1 x-2.5x Eyepiece: 10 x (15 x, 20 x option) Field of observation: image Scanning range X/Y direction: +/- 10 mm joystick Alignment method: Auto alignment (PLA-600FA): +/-0.5, +/-1.0, +/-2.0 ILm Tolerance setting: Key patterns for auto alignment Offset control: (0-7.9 ILm in 0.1 ILm units, 0-791Lm in 1 ILm units) Alignment mode: Auto, semi-auto and manual.
CANON PLA 600F ist eine Maske-Aligner-Maschine für verschiedene Halbleiter- und mikroelektronische Chip-Fertigungsprozesse. Die Maschine ist als vertikal ausgerichtete Einrichtung ausgebildet, wobei die Substrate auf eine Bühne montiert werden, die dann vertikal relativ zu einer Maske oder einem Retikel bewegt wird. Es kann Wafer bis zu 6 Zoll Durchmesser verarbeiten, mit einer typischen Verarbeitungszeit von 30 ~ 60 Minuten pro Wafer. CANON PLA600F hat eine freiliegende Platte und ist mit einem energiesparenden Vorausrichtungssystem ausgestattet. Diese Einheit richtet die Maske genau auf das Substrat aus, auch bei Fehlstellungen von bis zu 3 µm. Es ist auch entworfen, um das Substrat vor möglichen Schäden während der Ausrichtung zu schützen, sowie eine saubere und schmutzfreie Arbeitsumgebung zu halten. PLA-600F verfügt über eine zweiachsige Abtastmaschine und ist in der Lage, in verschiedenen Modi zu arbeiten, um eine Vielzahl von Prozessen unterzubringen. Die Abtastrichtung, die Abtastrate und die Belichtungsintensität können an unterschiedliche Prozessparameter angepasst werden. Die Maschine ist auch mit einem automatischen Belichtungswerkzeug ausgestattet, das eine präzise Belichtungssteuerung ermöglicht, um Prozessgleichmäßigkeit und Genauigkeit über eine Reihe von Bildgrößen zu gewährleisten. In Bezug auf die Beleuchtungsoptik kann CANON PLA-600F eine Reihe von Objektiven aufnehmen, mit einer Auswahl an Mikroskopzielen, Makrozielen und Feldzielen. Diese große Auswahl an Objektiven ermöglicht es der Maschine, Substrate verschiedener Größen und Formen genau auszurichten. Ebenfalls in das Asset integriert ist CANON Sensor Array Modell für erweiterte Beleuchtungsgleichförmigkeitskontrolle. Dieses Gerät kann arbeiten, um die Gleichmäßigkeit der marginalen Beleuchtung und Substrat Belichtungszeiten zu steuern. CANON PLA-600 F verfügt auch über ein CLASS-SEV Vakuumsystem, das das Substrat während der Verarbeitung fest auf der Bühne hält. Das Gerät sorgt auch für eine saubere, schmutzfreie Vakuumumgebung. Die Bühne der Maschine ist auch sehr einfach zu bedienen und kann über eine einfache und intuitive Benutzeroberfläche eingestellt werden. Zusammenfassend ist PLA-600 F eine vielseitige und präzise Mask Aligner Maschine, die verschiedene Prozesse verarbeiten kann. Es ist mit einer Reihe von Objektiven, einer Sensor-Array-Maschine und einem KLASSE-SEV Vakuum-Werkzeug ausgestattet, die alle eine genaue Ausrichtung, Beleuchtungsgleichmäßigkeit und Sauberkeit gewährleisten. Die benutzerfreundliche Benutzeroberfläche macht diese Maschine einfach zu bedienen und hilft, eine reibungslose und effiziente Produktion zu gewährleisten.
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