Gebraucht DNK MA-4200 #9144337 zu verkaufen

DNK MA-4200 mask aligner ist eine halbautomatische Photolithographie-Ausrüstung zur Herstellung von mikroelektronischen Geräten. Es kann zur Herstellung von Geräten mit Funktionen im Bereich von 20 bis 200 nm verwendet werden. Die Maschine besteht aus zwei Primärteilen, einem Mainframe und dem Leser/Schreiber. DNK MA4200 Mainframe beherbergt die für die Photolithographie benötigten optischen und mechanischen Komponenten. Dazu gehört eine Grundplatte, auf die Maske und Substrat aufgesetzt sind. Der Leser/Schreiber ist ein elektronisch gesteuertes System, das das Muster auf der Maske interpretiert und auf das Substrat schreibt. Die Maschine verfügt über mehrere einstellbare Eigenschaften, um eine hochpräzise Herstellung zu erreichen. Der Schrittmotor ermöglicht Mikroskopeinstellungen entlang der X- und Y-Achse für insgesamt vier Freiheitsgrade. Die Maskenstufe kann in 5 kontinuierlichen Schritten bewegt und auch in Fünf-Grad-Schritten gedreht werden. Der Leser/Schreiber verwendet einen ultravioletten Laser zur Belichtung und eine Sechszonenstufe zur Fokussierung des Photolacks auf das Substrat. Wenn ein Fertigungsauftrag in MA 4200 geladen wird, wird die Maske zuerst mit dem Substrat über die X-, Y- und Rotationsstufe ausgerichtet. Anschließend werden eine Reihe von Scans mit der Maske und dem Substrat eingeleitet. Jeder Scan benötigt mehrere Durchläufe und Laserskala, um das Muster auf das Substrat zu schreiben. Die Länge jedes Scans hängt von der gewünschten Auflösung und Genauigkeit ab. Sobald das Muster auf das Substrat geschrieben ist, hat MA-4200 einen automatischen Entwicklungszyklus. Dieser Schritt erfordert mehr Präzision als andere Teile des Verfahrens und ist so konzipiert, dass eine dünne Schicht aus Photolack zur Auswahl von Teilen des Substrats aufgebracht wird. Insgesamt ist der Maskenausrichter DNK MA 4200 ein vielseitiges, in sich geschlossenes Werkzeug, das für die hochpräzise Mikrofertigung unerlässlich ist. Es ist in der Lage, Funktionen so klein wie 20 Nanometer mit wiederholbaren Ergebnissen genau zu produzieren, was es ideal für komplexe Designs für zukünftige elektronische Geräte macht.