Gebraucht DNS / DAINIPPON MA-4200 #9315610 zu verkaufen

DNS Screen DNS/DAINIPPON MA-4200 ist ein Maskenausrichter, der für die Photolithographie in Mikrofabrikationsprozessen verwendet wird. Sie ist speziell für die Herstellung mikroelektronischer Bauelemente und die Herstellung von Halbleiterbauelementen ausgelegt. Der Maskenausrichter ist in der Lage, Schichten von Photoresists auf Substraten mit einer Auflösung von 1 Mikron lithographisch zu strukturieren. DNS MA-4200 ist ein vollautomatisches, computergesteuertes Belichtungswerkzeug, das eine hochintensive Halogenlampe-Lichtquelle und eine fortschrittliche Optik verwendet, um eine sofortige Belichtung mit extrem hoher Präzision und Genauigkeit zu ermöglichen. Das gesamte Lithographiesystem ist auf Einfachheit und Benutzerfreundlichkeit ausgelegt und kann mit minimalem technischen Training betrieben werden. DAINIPPON MA-4200 verfügt über einen dynamischen Mustergenerator, der lithographische Muster erzeugen kann, die mit Parametern wie Linienbreite, Raum, Ausrichtungsgenauigkeit, Linienkantenschärfe und kritischer Bemaßungssteuerung (CD) modifiziert und angepasst werden können. Mit diesem Werkzeug lassen sich vielfältige Muster für komplexe Konstruktionen erzeugen, darunter 2D- und 3D-Merkmale, die dann auf ein Substrat übertragen werden. MA-4200 umfasst auch ein computergesteuertes Gesundheitsüberwachungssystem, das eine kontinuierliche Prozessüberwachung ermöglicht. Dieses System überwacht die Leistung der Lampe und der Optik im Laufe der Zeit und stellt sicher, dass der lithographische Prozess frei von Drift ist. Darüber hinaus weist das Instrument auch ein Kalibrierretikel zur periodischen Kalibrierung der Ausrichtgenauigkeit auf. DNS/DAINIPPON MA-4200 bietet aufgrund seiner Kombination aus fortschrittlicher Technologie und einfacher Bedienung eine hohe Leistung bei schnellem Durchsatz. Es bietet die höchste Overlay-Registrierungsgenauigkeit in der Branche und kann Submikron-Auflösungsmuster mit ausgezeichneter Linienkantenschärfe produzieren. DNS MA-4200 ist eine zuverlässige und effiziente Lösung für alle Ebenen der photolithographischen Anwendungen.