Gebraucht ELS TECHNOLOGY ELS 106FA #9052741 zu verkaufen
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ID: 9052741
Fully automatic mask aligner, 2" - 8"
Mask Size: 4" - 9"
Lamp House: 250W, 500W, 1KW
Wave Length: Broad Band, 365/400/436nm
Light Intensity: >20mW / cm2 Based on 365nm (250W); >40mW / cm2 Based on 365nm (500W)
Light Intensity Uniformity: < 3%
Effective Exposure Area: Max. 150 mm x 150 mm / Max. 200 mm x 200 mm
Transportation: Double Arm Robot
Exposure Mode: Proximity, Soft, Hard, Vac. Contact
Alignment Key: 150 x 150um and smaller
Alignment Accuracy: ± 1um
L/S Resolution: 1um Based on contact Mode, PR thickness: 1um
Running Time: < 28 sec./pc
System Control: PC Base
Option: Cut Filter, Double Sides Alignment.
ELS TECHNOLOGY ELS 106FA ist ein modernes, hochwertiges, automatisiertes Masken-Aligner für die Herstellung von Mikroelektronik und Photonik. Es ist eine ideale Lösung für jedes forschungs- und entwicklungsorientierte Unternehmen, Labor oder Universität. ELS TECHNOLOGY ELS-106FA nutzt die neuesten Fortschritte in der Lithographietechnologie, um hochgenaue Lithographie für ein breites Anwendungsspektrum bereitzustellen. Die Hauptkomponenten von ELS 106FA sind ein Controller, ein Bühnendeck, ein Bühnenrad, ein Maskenträger, ein Mustergenerator, ein Wafer-Handler und ein Wafer-Tisch. Der Controller ist ein Desktop-Computer, ausgestattet mit dem neuesten Windows 10 Pro Software-Paket, speziell für den Betrieb ELS-106FA Lithographie-Geräte gebaut. Bühnendeck und Bühnenrad sorgen für eine präzise Bewegung von Wafer und Maskentisch relativ zueinander. Der Maskenträger hält den Mustergenerator, der für die Erzeugung des gewünschten lithographischen Musters verantwortlich ist. Der Wafer-Handler überträgt die Wafer vom Wafer-Tisch in das Bühnendeck. Schließlich ist der Wafertisch die Plattform, auf der Maske und Wafer ausgerichtet und fixiert sind. ELS TECHNOLOGY ELS 106FA verwendet ein patentiertes, stufenüberspringendes Maskenausrichtverfahren. Diese patentierte Technologie wurde entwickelt, um die Zeit zu reduzieren, die benötigt wird, um die Maske und den Wafer genau auszurichten. ELS TECHNOLOGY ELS-106FA ist ein automatisiertes System, das das gewünschte Lithographiemuster ohne Eingriff des Bedieners durchführen kann. Dieses Gerät hat auch eine Top-of-the-Line 8 µm Auflösung, so dass es für die meisten Anwendungen mit hoher Genauigkeit geeignet ist. Neben seinen leistungsstarken Lithographiefähigkeiten unterstützt ELS 106FA auch zahlreiche Mustergenerierungstechnologien. Dies umfasst die Verwendung einer Bibliothek mit benutzerdefinierten Designvorlagen oder die Anwendung angepasster Einstellungen auf vom Benutzer bereitgestellte Masken. Darüber hinaus ist die Maschine in der Lage, die Belichtung einzelner Platten unabhängig zu steuern und ermöglicht komplexere und fortschrittlichere Lithographie-Designs. ELS-106FA verfügt über zahlreiche weitere Funktionen. Das Tool unterstützt beispielsweise die Einhaltung von Industriestandards, einschließlich IPC-A-600 und IPC-7351. Es unterstützt auch Reporting und Rückverfolgbarkeit für bis zu 500 fusionierte Wafer gleichzeitig. Darüber hinaus unterstützt das Asset eine Vielzahl automatisierter Qualitätssicherungstools. Abschließend ist ELS TECHNOLOGY ELS 106FA Automated Mask Aligner in seiner Leistung und Fähigkeiten beispiellos. Es bietet automatisierte Lithographie mit hoher Auflösung, unterstützt mehrere Mustergenerierungstechnologien und unterstützt Industriestandards. All diese Eigenschaften machen ELS TECHNOLOGY ELS-106FA die perfekte Wahl für die Herstellung von Mikroelektronik und Photonik.
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