Gebraucht ELS TECHNOLOGY ELS 106SA #9059476 zu verkaufen

ELS TECHNOLOGY ELS-106SA ist ein kompakter und einfach zu bedienender Maskenausrichter zur Herstellung hochwertiger Halbleiterbauelemente wie Speicherchips, Logikbausteine und Dünnschichttransistoren. ELS-106SA ist darauf ausgelegt, hochauflösende Photomasken mit einer Abtastfläche von bis zu 5mm x 4mm genau und schnell über die Waferoberfläche auszurichten und zu übertragen. ELS TECHNOLOGY ELS-106SAs fortschrittliche optische Ausrichtungsausrüstung erkennt automatisch die Größe, den Ausrichtungsfehler, die Überlagerungsgenauigkeit und die Prozessparameter für alle Photomasken- und Waferschichten. ELS-106SA ist mit einem hochentwickelten, motorisierten Ausrichtsystem ausgestattet, das automatisch alle Endpunkte mit 20nm Genauigkeit in den Photomasken- und Waferschichten erfasst. Darüber hinaus wird auch die Positionseinstellung für die Abbildung von Photomaskenmustern auf den Wafer automatisch gesteuert. Die Ausrichtungseinheit wird durch eine eingebaute Laserstreuungsmaschine verbessert, die genaue dynamische Overlay-Messungen liefert, die eine präzise Ausrichtung von Photomasken-Mustern auf die darunter liegenden Filmschichten ermöglichen. ELS TECHNOLOGY ELS-106SA ist zudem mit einem hocheffizienten Schrittmotor zur präzisen Positionierung der Fotomaske auf dem Wafer ausgestattet. Dieser Motor ist mit einem Indexer gekoppelt und wird von dem eingebetteten Mikrocontroller-Tool von ELS-106SA angetrieben und bietet eine präzise Ausrichtung auf Nanoebene. ELS TECHNOLOGY ELS-106SA verfügt auch über Auto-Fokus-Fähigkeit, so dass der Benutzer ihre Belichtungen mit höherer Auflösung und Genauigkeit zu optimieren, während dennoch robuste Leistung. ELS-106SA ist auch mit einer umgebungstemperaturgeregelten Umgebung ausgestattet, die durch ihren Temperaturregler geregelt wird, um einen stabilen Prozess zu gewährleisten. Diese zusätzliche Funktion trägt dazu bei, eine geringe Nähe von Photomaske zu Wafern zu gewährleisten, was für Anwendungen wie Strained Silicon Technologie entscheidend ist. ELS TECHNOLOGY ELS-106SA ist eigenständig, kann aber individuell für eine Vielzahl von Prüf- und Prozessanforderungen konfiguriert werden. Es unterstützt plattformneutrale Testbedingungen und kann mit anderen Systemen zur automatischen Fehlererkennung und für Photomasken-Optimierungsfunktionen integriert werden. ELS-106SA bietet auch Fernzugriff zur Fernüberwachung und Analyse der Asset-Performance sowie zur Fehlerbehebung. Abschließend ist ELS TECHNOLOGY ELS-106SA ein robuster und zuverlässiger Maskenausrichter, der qualitativ hochwertige Photomasken für eine Vielzahl von Halbleiterbauelementen liefern kann. Die fortschrittlichen Funktionen zur automatischen Ausrichtung und zum Autofokus gewährleisten eine unübertroffene Genauigkeit und Wiederholbarkeit, während die temperaturgesteuerten Quarzelemente die für die Verarbeitung von Wafern mit hoher Auflösung erforderliche Stabilität bieten. Weitere Funktionen wie Remote-Zugriff, Plattformneutralität und Integration mit anderen Systemen tragen zu seiner Effektivität bei.