Gebraucht EVG / EV GROUP 40 #9197307 zu verkaufen

EVG / EV GROUP 40
Hersteller
EVG / EV GROUP
Modell
40
ID: 9197307
Wafergröße: 8"
Alignment measurement system, 8".
EVG®/EVG/EV GROUP 40 Maske Aligner ist eine vielseitige und präzise Photolithographie-Ausrüstung zur Herstellung konsistenter Mikrostrukturen auf Halbleiterbauelementen. Das System ermöglicht die Ausrichtung und zuverlässige Belichtung von Substraten bis zu 3,7 Zoll Größe mit gleichmäßigem UV-Licht in einer kontrollierten Umgebung. Das einzigartige zweistufige Design des Mask Aligner sorgt für die genaue und saubere Belichtung jeder Schicht, während ein Standard-Vakuum die Substrate während der Lithographie-Prozesse fest gesichert hält. Darüber hinaus ist die Einheit in der Lage, eine Vielzahl von Photomasken und anderen optisch klaren Substraten für überlegene Ergebnisse zu handhaben. Der Mask Aligner ist mit einer fortschrittlichen digitalen Ausrichtmaschine ausgestattet, die eine präzise Positionierung der optisch klaren Substrate während der Belichtung ermöglicht. Das Ausrichtwerkzeug verwendet zwei Stufen der Feinjustierung für perfekte Registrierungsgenauigkeit, um sicherzustellen, dass jede Mikrostruktur erfolgreich mit einem sauberen und gleichmäßigen Finish belichtet wird. Zusätzlich verfolgt ein einzigartiger optischer Ausrichtungssensor die exakte Platzierung des Substrats, wodurch Fehlstellungen vermieden werden und die Genauigkeit wiederholter Belichtungen gewährleistet ist. Die optische Kammer des Geräts wurde entwickelt, um die Lichtstreuung für eine gleichmäßige UV-Lichtbelichtung über das gesamte Substrat zu reduzieren. Dadurch wird sichergestellt, dass auf jeder Schicht identische Strukturen exakt repliziert werden können, während das eingebaute Vakuum fest gesicherte Substrate ermöglicht, die während des gesamten Prozesses stabil und sicher bleiben. Zusätzlich zu seinen automatisierten Ausrichtungsmöglichkeiten kann der Mask Aligner auch eine Vielzahl optisch klarer und lichtdurchlässiger Substrate handhaben, um eine saubere und konsistente Lithographie zu ermöglichen. Für spezifischere Anforderungen kann das Modell mit spezialisierter Software, Hardware und Zubehör (z.B. hochpräzise Heizstufen, Hochleistungs-UV-Lampen) angepasst werden. Darüber hinaus kann der Mask Aligner in bestehende Produktionslinien integriert werden, um eine nahtlose Integration und ultimative Vielseitigkeit zu gewährleisten. Insgesamt ist EV GROUP®/EVG 40 Maske Aligner eine ideale Wahl für jede Operation, die höchste Präzision und Genauigkeit erfordert. Seine fortschrittliche optische Kammer, automatisierte Ausrichtausrüstung und die Fähigkeit, verschiedene Substrate zu handhaben, machen es zu einer idealen Wahl für die Herstellung von Halbleiterbauelementen und andere High-Tech-Fertigungsoperationen.
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