Gebraucht EVG / EV GROUP 40 #9232667 zu verkaufen
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ID: 9232667
Top-to-bottom side measurement system
Includes:
Workstation
Monitor, 17"
CPU with alignment glass
Power requirement: 120-230 V, 50/60 Hz, Single phase, 0.5 kW.
Der | EVG/EV GROUP 40 Masken-Aligner ist ein hochgenaues und effizientes Mikrolithographie-Werkzeug, das Muster auf verschiedenen Substraten ausrichten und belichten kann. Die Genauigkeit des Maskenausrichters ergibt sich aus seiner fortgeschrittenen vertikalen Auflösung von 0,6 μ m sowie einer Wiederholfrequenz von bis zu 10 µm für eine optimale Platzierung von projizierten Bildern. Durch diese Präzision wird sichergestellt, dass Muster längerfristig genau auf dem Substrat belichtet werden und das Substrat für nachfolgende Lithographieprozessschritte vorbereitet wird. Das fortschrittliche Design des | EVG 40 Masken-Aligners sorgt für extreme Genauigkeit und Wiederholbarkeit vor jedem Ausrichtungsprozess. Mit einer Wiederholgenauigkeit von 0,05 μ m und einer Positioniergenauigkeit von 0,3 μ m bewegt sich die Bühne bis zu 600 mm. Dadurch wird sichergestellt, dass Substrate für die verdeckte Ausrichtung ordnungsgemäß vorbereitet und wiederholt und präzise belichtet werden können. Dieses Bühnenbild ermöglicht auch eine hochpräzise Musterverschiebung bei gleichem Muster auf mehreren Substraten. Um eine effiziente Produktionsabwicklung zu ermöglichen, ist der | EV GROUP 40 Maskenausrichter mit einem hocheffizienten Maskenlader ausgestattet. Der einfach zu bedienende Lader ist darauf ausgelegt, bis zu 40 Masken zu lagern und diese Masken geordnet zu indexieren, wodurch die Produktionskonsistenz durchgängig gewährleistet ist. Dieser schnelle und präzise Maskenbeladungsprozess verbessert die Produktionszeit weiter und minimiert das Fehlerrisiko. Der | EVG/EV GROUP 40 Masken-Aligner kann mit seinem hocheffizienten Projektionsanzeigesystem auch Serienläufe erleichtern. Mit einer Belichtungsauflösung von 0,6 μ m und einem hochauflösenden Projektionsdisplay von bis zu 1056 x 2032 Punkten ist das System darauf ausgelegt, eine Vielzahl von Lithographiestrukturen auf verschiedenen Substraten gleichzeitig zu erzeugen. Dies gewährleistet eine schnellere und präzisere Produktionsabwicklung. Der | EVG 40 Masken-Aligner ist auch entwickelt, um jeden Schritt des Produktionsprozesses zu beobachten und zu überwachen. Es ist mit einer intern montierten CCD-Kamera und einem automatischen Verstärkungserkennungssystem ausgestattet, das Echtzeitbilder aufzeichnet und verarbeitet, wodurch die Prozessgenauigkeit drastisch erhöht wird. Der | EV GROUP 40 Masken-Aligner ist ein effizientes Mikrolithographie-Tool zur präzisen Maskenausrichtung und Belichtung von Mustern auf Substraten. Sein fortschrittliches Design sorgt für extreme Genauigkeit und Wiederholbarkeit, während seine effizienten Eigenschaften es für eine breite Palette von lithographischen Anwendungen geeignet machen. Die eingebauten Überwachungssysteme gewährleisten zudem die Prozessüberwachung und steigern die Produktionsleistung.
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