Gebraucht EVG / EV GROUP 420 #293757176 zu verkaufen

Hersteller
EVG / EV GROUP
Modell
420
ID: 293757176
Mask aligner.
EVG/EV GROUP 420 Maske Aligner ist ein vielseitiger Maskenausrichter, der Anwendern dynamische Mustermaskierung und messtechnische Möglichkeiten für ihre Prozessentwicklung bietet. EVG 420 Maske Aligner ist ideal für Projekte von der optischen Lithographie bis hin zu nanoskaligen Technologien. Es verfügt über eine hohe Genauigkeit mit den neuesten Präzisionsausrichtungstechnologien und Lasern und kann eine breite Palette von Substratvariationen und Prozesskompetenz liefern. Die EV GROUP 420 Maske Aligner ist mit einem speziellen integrierten Revolver ausgestattet, der ein schnelles Laden vieler Maskenrahmen auf einmal ermöglicht, wodurch der Wechsel zwischen verschiedenen Masken und das Ausführen mehrerer Projekte auf einmal einfach ist. Darüber hinaus bietet es drei verschiedene Ausrichtungsmodi, die den Anforderungen jeder Anwendung entsprechen: Manuelle Ausrichtung, automatische Eckenerkennung und Kantenerkennung. Manuelle Ausrichtung ist der präziseste Weg, fragile Masken auszurichten und Restverzerrungen zu minimieren. 420 Mask Aligner verspricht zudem einen schnellen Durchsatz mit einer Zykluszeit von nur 240 Sekunden und Durchsatzgeschwindigkeiten von bis zu 200 Wafern pro Stunde. Es kann auch dünne Substrate aufgrund seiner geringen minimalen Substratdicke von 0,2 mm handhaben. Inzwischen verfügt der Mask Aligner auch über adaptive Fokussteuerung, Neigungssteuerung und Planarisierungsalgorithmen für verbesserte Prozessqualität. Weitere bemerkenswerte Merkmale von EVG/EV GROUP 420 Maske Aligner umfassen das vollautomatische Be- und Entladen von Wafern; ein Wärmebildsystem zur Temperatureinstellung; modernste CCD und automatisches Belichtungssystem; und eine Bibliothek von Overlay-Ausrichtungsrezepten. Insgesamt ist EVG 420 Mask Aligner ein vielseitiges bildgebendes Werkzeug mit einer Vielzahl von Funktionen und Fähigkeiten, ideal für schnelle und genaue Lithographie- und Messtechniken. Es ist ein ideales Werkzeug für jede Entwicklungs- und Forschungsumgebung, in der hohe Genauigkeit und Geschwindigkeit an erster Stelle stehen.
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