Gebraucht EVG / EV GROUP 420 #9292586 zu verkaufen

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Hersteller
EVG / EV GROUP
Modell
420
ID: 9292586
Wafergröße: 4"
Weinlese: 1999
Mask aligner, 4" Top and back side alignment BSA Chuck wafers (2) Edge clamping BSA chucks Transparent chuck for wafers Manual loading 1999 vintage.
EVG/EV GROUP 420 Maske Aligner ist eine hoch technologisch fortschrittliche Ausrüstung für photolithographische Anwendungen. Unter Verwendung der Next-Gen-Optik ist das System in der Lage, Photomasken für nanoskalige Anwendungen genau auszurichten. Dieses Gerät ist in der Lage, Funktionen so klein wie 35nm oder höher zu drucken, so dass es eine ideale Wahl für die modernsten Technologien ist. Neben seiner beeindruckenden Druckgenauigkeit bietet EVG 420 auch eine breite Palette von Funktionen, die es zu einer attraktiven Option für die hochpräzise Fertigung machen. EV GROUP 420 Maske Aligner besteht aus einem 10,4-Megapixel-Kamerasensor, einem einstellbaren Abbildungsobjektiv, hochpräzisen motorisierten Stufen, integriertem Vakuum-Wafer-Spannfutter und einem High-End-PC zur Steuerung der gesamten Maschine. Das Tool bietet auch eine große Auswahl an Software-Optionen, so dass Benutzer die vollständige Kontrolle über alle Parameter des Photolithographie-Prozesses haben. Die Anlage bietet eine genaue Ausrichtungsgenauigkeit von bis zu 15 nm und ist in der Lage, ein genaues Muster mit 35nm oder höheren Eigenschaften zu drucken. Sein Fokus- und Positionsrückkopplungsmodell sorgt für konsistente Druckergebnisse, während die hohe Bewegungsgeschwindigkeit und die wiederholbare Positionierung einen größeren Durchsatz für die Serienproduktion ergeben. Darüber hinaus verfügt das Gerät über Ausrichtungsüberwachungssysteme und Autofokus-Fähigkeiten. 420 Mask Aligner bietet auch eine Vielzahl wichtiger Sicherheitsmerkmale, wie eine integrierte Not-Aus-Taste, manuelle Betriebsüberschreitung und automatische Abschaltfunktion. Diese Sicherheitsmerkmale tragen dazu bei, eine sichere Arbeitsumgebung für jedes Fertigungsteam zu gewährleisten. Alles in allem ist EVG/EV GROUP 420 Maske Aligner ein leistungsstarkes, vielseitiges und äußerst genaues System, das sich perfekt für komplexe Photolithographie-Operationen eignet. Die fortschrittlichen Technologien und die Vielzahl an Softwareoptionen machen es zu einer idealen Wahl für jede Produktionsstätte, die der Kurve voraus sein und die nanoskaligen Produkte von höchster Qualität produzieren möchte.
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