Gebraucht EVG / EV GROUP 610 #293615268 zu verkaufen

EVG/EV GROUP 610 ist ein hochmoderner Maskenausrichter für die Photolithographie. Dieser Masken-Aligner eignet sich gut für moderne hochpräzise Anwendungen. Es bietet ein hochgenaues, schnelles und wiederholbares Photolithographieverfahren, das in der Lage ist, feine Linienauflösungsmuster mit der besten Ausrichtungswiederholbarkeit in der Halbleiterindustrie konsequent zu erzeugen. EVG 610 verfügt über eine modulare Architektur, die es Anwendern ermöglicht, die Maschine an ihre spezifischen Produktionsanforderungen anzupassen. Es verfügt über einen Top-Down-6-Zoll-Arbeitsbereich, so dass Substrate mit einem großen planaren Sichtfeld bis zu 50 mm dick bearbeitet werden können. Die Präzisionsstufe bietet zudem einen Scanbereich von 2000 x 1000 μ m ² und eine Auflösung von 1 nm. Die motorisierte Z-Achse sorgt an allen Stellen für optimale Parallelität zwischen Maske und Substrat und die hochauflösende Optik ermöglicht eine Vergrößerung von bis zu 1000x und einen Arbeitsabstand, der mit einer hohen Genauigkeit von ± 1 μ m über das gesamte Sichtfeld geregelt wird. EV GROUP 610 verfügt über eine Reihe von Funktionen, die es für eine breite Palette von Anwendungen geeignet machen, einschließlich Photolackbelichtung, Ausrichtung und Ätzen, nanoskalige Strukturierung und Schichtregistrierung. Es unterstützt sowohl UV- als auch DUV-Lithographie und eine Vielzahl von Belichtungsquellen, von Xenonlampen bis zu ArF-Lasern. Darüber hinaus ist die Maschine vollständig mit einer Vielzahl von Mustergeneratoren, Belichtungsköpfen und Belichtungsquellen-Controllern für die vollständige Automatisierung von Photolithographie-Prozessen integriert. Dieser Masken-Aligner ist einfach zu bedienen und erfordert einen minimalen Eingriff des Bedieners. Es verfügt über eine benutzerfreundliche Touchscreen-Schnittstelle, so dass es einfach ist, Photolithographie-Rezepte und -Prozesse zu programmieren und zu überwachen. Es bietet auch erweiterte Steuerungs- und Rückkopplungsfunktionen, um optische und Prozesssteuerdaten in Echtzeit bereitzustellen. 610 kann in andere Photomasken-Fertigungslösungen integriert werden, sodass Anwender automatisierte Lösungen mit mehreren Lebenszyklen entwickeln können. Abschließend ist die EVG/EV GROUP 610 ein hochgenauer, vielseitiger und benutzerfreundlicher Maskenausrichter, der eine ausgezeichnete Wahl für photolithographische Anwendungen darstellt. Diese Maschine bietet eine breite Palette von Funktionen und Funktionen, bietet Anwendern hervorragende Leistung und Wiederholbarkeit für ihre Photomasken-Herstellung Anforderungen.