Gebraucht EVG / EV GROUP 610 #9197737 zu verkaufen

EVG/EV GROUP 610 ist ein hochmoderner Präzisionsmasken-Aligner, der im Lithographieverfahren eingesetzt wird. Es wurde speziell für die Herstellung von fortschrittlichen Photomasken und Retikeln entwickelt, die in der Photolithographie verwendet werden, speziell für Verarbeitungsknoten der nächsten Generation. Diese Maskenausrichter verwenden eine Doppel-Verschluss, Lithographie-basierte Ausrüstung, um eine Mustergenauigkeit von ± 1 nm zu erreichen. EVG 610 verfügt auch über eine einzigartige Kombination aus mechanischen, elektrischen und Software-Komponenten, um eine präzise Ausrichtung und wiederholbare Prozessergebnisse zu liefern. EV GROUP 610 verfügt über ein modernes optisches System mit einer Diodenlasereinheit, die mehrere, wählbare Laserwellenlängen und Leistungsstufen für hohe Auflösung und Genauigkeit verwendet. Dies macht es ideal für die Herstellung von Photomasken und Retikeln an den fortschrittlichsten Knoten. Der Laser ermöglicht auch eine hochpräzise Ausrichtung und Registrierung auch bei der Verwendung fortgeschrittener Photomasken mit Überhangstrukturen. Darüber hinaus ist der 610 Laser sehr robust, mit einer geringen Reflektivität, so dass er ideal für die Herstellung einer Vielzahl von Photomasken. Die EVG/EV GROUP 610 verfügt zudem über eine automatisierte Substrathandhabungsmaschine, die eine effiziente Ausrichtung und Verarbeitung von Wafern ermöglicht. Dazu gehören ein automatisierter Feeder und ein optionaler automatischer Substratlader, der sich ideal für Produktionsanforderungen eignet. Die servogesteuerten Wafer- und Retikelstufen sorgen für ultrahohe Genauigkeit und Präzision mit 1,5 nm Wiederholbarkeit. Die Stufen verfügen auch über fortgeschrittene Bewegungssteuerungsalgorithmen für optimierte Teilebewegung und ein motorisiertes Rollenkompensationsmodul für präzise Teileplatzierung. EVG 610 verfügt über ein vielseitiges Belichtungswerkzeug, das ein hochgenaues UV-Projektionsgerät mit fester Position umfasst. Dieses Modell gewährleistet eine präzise und wiederholbare Registrierung für hochgenaue Lithographieanwendungen. Die EV GROUP 610 bietet zudem eine vollautomatische Belichtungssteuerung mit integrierten Mustererkennungsalgorithmen für einen schnellen und zuverlässigen Betrieb. Schließlich verfügt 610 über erweiterte Wafer-Tracking- und Überwachungsfunktionen, einschließlich eines integrierten 0-Segment-CCD-Kamerasystems. Diese integrierte Einheit verfügt über erweiterte Fehlererkennungsalgorithmen und Integration in nachgeschaltete Prozessverfolgungssysteme. Darüber hinaus ist ein optionales Softwarepaket mit erweiterten Funktionen wie 3D-Optimierungsalgorithmen, verbesserten Fehlererkennungsfunktionen und Prozessüberwachung verfügbar. Insgesamt ist die EVG/EV GROUP 610 ein erstklassiger Maskenausrichter mit fortschrittlichen Funktionen für die hochpräzise Lithographieverarbeitung. Die Kombination aus optischen, mechanischen, elektrischen und Software-Komponenten macht es ideal für die Herstellung der modernsten Photomasken und Retikel. Darüber hinaus erhöhen die Automatisierungsmaschinen- und Fehlererkennungsfunktionen die Prozesseffizienz und liefern wiederholbare, zuverlässige Ergebnisse.