Gebraucht EVG / EV GROUP 620 #9144780 zu verkaufen

EVG/EV GROUP 620 ist ein High-End, photolithographische Maske Aligner entwickelt für präzise und genaue Ausrichtung von Masken, Wafern und Substraten. Es ist ein Computer-to-Mask Aligner (CMA), der die Ausrichtung von Belichtungsmasken auf Substrate mit höchster Präzision und Genauigkeit ermöglicht. Das System ist in der Lage, Schablonen mit einer Auflösung von 1 μ m für Halbleiter- und Elektronikbauelemente zu strukturieren. EVG 620 verfügt über zwei schrittmotorisch angetriebene XY-Bewegungsplattformen, die eine präzise Ausrichtung des Substrats bieten. Diese Plattformen treiben eine Bewegungsplattform, die eine Belichtungsmaske hält, so dass sie sich in zwei Achsen in präzisen Schritten bewegen kann. Dieses kombiniert mit der Maske, die ein bestimmtes Muster oder Design hält, ermöglicht es, ein Substrat oder einen Wafer berührungslos mit geringen Fehlstellungen oder Verschiebungen zu übertragen. Neben der präzisen Ausrichtung für Photolithographie-Prozesse verfügt die EV GROUP 620 auch über Autofokus-Fähigkeiten. Autofokus sorgt dafür, dass das Substrat vor Beginn des Belichtungsprozesses präzise und genau gescannt wird, um sicherzustellen, dass der gesamte Prozess optimal durchgeführt wird. 620 verfügt über eine intuitive und klare grafische Benutzeroberfläche, die eine einfache Bedienung und Einrichtung ermöglicht. Es ermöglicht eine präzise und schnelle Positionierung, so dass der gesamte Photolithographie-Prozess schnell und nahtlos abgeschlossen werden kann. Darüber hinaus ist die EVG/EV GROUP 620 modular aufgebaut und kann problemlos auf die sich ändernden Anforderungen der Kunden aufgewertet werden. Dies ermöglicht Flexibilität für potenzielle Upgrades auf der Strecke. Schließlich ist EVG 620 hochgradig konfigurierbar und kann an spezifische Anwendungen angepasst werden. Ob hochpräzise Ausrichtung oder empfindliche Feinlinienarbeit, die EV GROUP 620 kann nach unterschiedlichen Kundenanforderungen eingerichtet werden. 620 ist ein High-End, photolithographische Maskenausrichtung, die präzise und genaue Ausrichtung von Belichtungsmasken und Substraten bietet, mit einem integrierten Autofokus-System, und eine klare grafische Benutzeroberfläche. Es ist modular und anpassbar, und kommt mit der Fähigkeit, aktualisiert werden, so dass eine nahtlose Bedienung und maximale Benutzerzufriedenheit.