Gebraucht EVG / EV GROUP 620 #9160674 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 9160674
Wafergröße: 4"-6"
Weinlese: 2005
Mask aligner, 4"-6"
Chuck size: 2", 4" & 6"
Mask holder: 3", 5" & 7"
Printing mask holder / Chuck
Alignment: Topside & Back side
Cassette to cassette and manual mode
TSA / BSA / NIL module
GENMARK Robot
2005 vintage.
EVG (EV GROUP) EVG/EV GROUP 620 ist ein automatisierter und All-in-One-Masken-Aligner, der im Bereich der Photolithographie für eine Vielzahl von Anwendungen in der Halbleiterindustrie eingesetzt wird. EVG 620 ist ein flexibles, hochpräzises Lithographiewerkzeug, das eine breite Palette von Ausrichtungs- und Bildgebungsfähigkeiten bietet und es ermöglicht, für die Herstellung komplexer integrierter Schaltkreise (IC) und anderer mikroelektronischer Geräte verwendet zu werden. Die EV GROUP 620 ist mit einer hochgenauen und wiederholbaren Positionierung für kritische Lithographieanwendungen ausgestattet. Es kombiniert eine 5-achsige hochpräzise XY-theta Global Positioning Equipment (GPS) -Stufe mit einem mehrachsigen piezoangetriebenen Local Alignment System (LAS), was zu einer beeindruckenden Genauigkeit und Wiederholbarkeit im Nanometerbereich führt. 620 verfügt auch über ein hochmodernes polarisierendes Strahlteilermikroskop (PBS), das optische Bildgebung mit hoher Vergrößerung ermöglicht, um die Ausrichtung mit Submikron-Auflösungen zu unterstützen. Darüber hinaus umfasst die EVG/EV GROUP 620 auch eine integrierte Laserdiodenbildeinheit, die ihre Bildgebungsfähigkeit weiter verbessert. EVG 620 ist in der Lage, eine Vielzahl von Substraten mit einem großen Bereich von Resistdicken zu verarbeiten. Seine hochpräzise Stufe ermöglicht es, ICs auf Substraten bis zu einer Größe von 300 Millimetern (12 Zoll) genau auszurichten und abzubilden. Es ist auch in der Lage, die Bildung von Dual-Damaszenen-Merkmale, die Schaffung von Gräben, vias, Tore, oder sogar komplexe 3D-Strukturen. Die EV GROUP 620 verfügt über ein umfangreiches Spektrum an Konfigurationen und Optionen, mit denen sie auf spezifische Kundenanforderungen zugeschnitten werden kann. Diese Ausgestaltungen umfassen unter anderem einen IC-Aligner, einen Maskenausrichter, einen Waferscanner, einen Maskenscanner und eine Pulslaser-Direktabbildungsmaschine. Darüber hinaus verfügt 620 über eine benutzerfreundliche und intuitive grafische Benutzeroberfläche (GUI) mit Touchscreen-Technologie, die es auch für unerfahrene Benutzer einfach zu bedienen macht. Dieser All-in-One-Masken-Aligner ist für die Kompatibilität mit praktisch jedem Prozesskontrollwerkzeug konzipiert und ermöglicht eine einfache Integration und Bedienung in alle bestehenden internen Fertigungsprozesse. Darüber hinaus ist diese Maschine in der Lage, in einer Reinraumumgebung zu arbeiten und wird durch außergewöhnlichen Service und Unterstützung unterstützt, um jederzeit einen optimalen Betrieb zu gewährleisten. Insgesamt ist die EVG/EV GROUP 620 ein erstaunlicher Maskenausrichter, der hochmoderne Leistung und höchste Qualitätsstandards in der Branche bietet. Seine erweiterten Fähigkeiten und Zuverlässigkeit machen es zu einer der besten Optionen für Photolithographie-Anwendungen.
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