Gebraucht EVG / EV GROUP 620 #9206564 zu verkaufen

EVG/EV GROUP 620 ist ein Vollfeldmasken-Aligner mit halbautomatischer Photolithographie. Es ist in der Lage, hochpräzise Wafer herzustellen, die bei der Herstellung von Halbleiterbauelementen verwendet werden. Die Ausrichtungsgenauigkeit beträgt 0,8 μ m und ermöglicht eine präzise Strukturierung von Merkmalen mit hoher Auflösung. Die Maschine besteht aus einem Hauptrahmen und einer Gerätesteuerung. Der Hauptrahmen besteht aus einer Ausrichtungsstufe, einem Betrachter und einem Vakuumsystem. Die Ausrichtstufe ist in der Lage, den Objekthalter, das Transferfutter und den die Maske haltenden Rahmen genau zu positionieren. Es beherbergt auch eine Reihe von optischen Elementen, darunter einen Beleuchter, eine Fokussierlinse und eine Objektivlinse. Mit diesen Komponenten wird ein fokussierter Lichtstrahl auf die Oberfläche der Ausrichtstufe gerichtet. Der Betrachter ist eine digitale Einheit bestehend aus einer Kamera und einem Monitor. Es wird verwendet, um die Position jedes Elements auf der Bühne genau auszurichten und zu überwachen. Die Vakuummaschine sorgt für den notwendigen Druck für den Ausrichtvorgang. EVG 620 verwendet eine Kombination aus Ausrichtungs-, Overlay- und Wafer-Stufenmesstechnik, um Durchlaufzeiten von < 2 Minuten pro Wafer zu erreichen. Seine Ausrichtungsgenauigkeit basiert auf der dreidimensionalen bildbasierten Ausrichtungstechnologie. Diese Technologie basiert auf der Erfassung und Analyse von Bildern, die mit einem hochauflösenden sichtbaren Lichtmikroskop aufgenommen wurden. Der Ausrichtungsalgorithmus wird verwendet, um die Koordinaten des Wafers und der Maske zu berechnen und präzise Informationen zur X-Y- θ-Stufe bereitzustellen. Bei der Wafer-Stufenmesstechnik handelt es sich ebenfalls um ein Mikroskop, wobei jedoch diesmal die Messung der Schritthöhen der Vorrichtung auf dem Wafer im Vordergrund steht. Es verwendet optische Interferometrie, um ein dreidimensionales Profil der Vorrichtung zu erzeugen und die genauen Schrittgrößen zu bestimmen. Diese Technologie ermöglicht die Messung auch sehr feiner Schritthöhen mit einer Auflösung von 0,1 μ m. EV GROUP 620 ist ein zuverlässiger Photolithographie-Masken-Aligner, der für eine Vielzahl von Projekten im Herstellungsverfahren von Halbleiterbauelementen eingesetzt werden kann. Es kombiniert modernste Ausrichtungs- und Messtechnologie, um genaue Ergebnisse in einem Bruchteil der Zeit zu liefern.