Gebraucht EVG / EV GROUP 620 #9207967 zu verkaufen

Hersteller
EVG / EV GROUP
Modell
620
ID: 9207967
Wafergröße: 6"
Weinlese: 2011
Mask aligners, 6" Topside alignment (TSA) Manual alignment Up to 6" wafer capable Can be operated in proximity, soft contact, hard contact / vacuum contact exposure modes Lamphouse: 500 W Exposure optics: Type C, 350 nm - 450 nm, broadband Microsoft windows based user interface System PC, keyboard, cables Operations manual for EVG 620 2011 vintage.
EVG/EV GROUP 620 ist ein hochpräziser Ausricht- und Mehrzweck-Maskenausrichter, der für eine fortschrittliche Ausrichtung und Strukturierung durch schnellen, präzisen und vielseitigen Betrieb optimiert ist. Es verfügt über einen niedrigen thermischen Budget-Betrieb für die bahnbrechende Herstellung von nanoskaligen Geräten, wo thermische Prägung Verzerrung ist ein Problem. EVG 620 besteht aus einer Wafer- und Maskenhandhabungsstufe, einer Strahlprojekt- und Verschlussausrüstung, einer Präzisionsmasken-Übersetzungsstufe, einem Controller und einem motorisierten Beleuchtungs- und Projektionslinsensystem. Wafer- und Maskenstabilität wird durch eine proprietäre EVG/EV GROPU P6000 Substrat- und Musterträgerporttechnologie gewährleistet. Diese Technologie ermöglicht eine mühelose Beladung, vollständige Automatisierung und einfache Positionierung von bis zu 5 ″ Wafern und 10 ″ x 10 ″ Musterträgern. Die Präzisionsausrichtungsoptik der EV GROUP 620 besteht aus einer optischen Maschine auf Zemax-Basis mit einer computergestützten Fresnel-Linse für verbessertes Sichtfeld und reduzierte Aberrationen. Darüber hinaus ist es mit einem Doppelbeleuchtungs-Projektionswerkzeug und einer Intrafeld-Verzerrungskorrektur ausgestattet. Die Ausrichtung des Wafers erfolgt mit Hilfe der erweiterten Ausrichtungssensoren und der automatischen Ausrichtungssoftware der Maschine. Es ist auch mit erweiterten Ausrichtungsmodi ausgestattet, um verschiedene Ausrichtungs- und Musterbedürfnisse zu unterstützen. Bei der Arbeit mit genauen Overlay-Werten überlappt 620 Muster auf Wafern genau, um komplexe Strukturen zu schaffen. Weitere bemerkenswerte Merkmale der EVG/EV GROUP 620 sind die Laser-Interferometer-basierte Overlay- und Mustergenauigkeit sowie ein hydraulisch angetriebener Verschluss zur präzisen Belichtungssteuerung. Die Anlage eignet sich auch für die Arbeit mit einer Reihe von Materialien, von herkömmlichen Fotomasken bis hin zu fortschrittlichen Gerätematerialien wie SiGe oder GaN. Insgesamt ist EVG 620 ein leistungsstarker und vielseitiger Maskenausrichter und eine vertrauenswürdige Wahl für Anwendungen, die höchste Genauigkeit und Präzision erfordern. Es ist das perfekte Werkzeug für die Herstellung von nanoskaligen Geräten und ist in Fertigungslabors auf der ganzen Welt unverzichtbar geworden.
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