Gebraucht EVG / EV GROUP 620 #9216173 zu verkaufen

EVG/EV GROUP 620 ist ein Masken-Aligner, der in der Halbleiterindustrie zur Herstellung integrierter Schaltungen (ICs) verwendet wird. Es ist ein Laser-Mikromusterwerkzeug, das eine hochauflösende Kamera verwendet, um einen Laserstrahl auf eine Maske einer bestimmten Geometrie zu lenken. Die 420 mm ² X-Y-Stufen sind in der Lage, die Maske während der Strukturierung genau zu positionieren und eine Mindestausrichtungsgenauigkeit von ± 0,3 µm zu erreichen. Das Gerät hat einen Drehwinkel von ± 7 °, was eine maximale Bearbeitungsflexibilität ermöglicht. EVG 620 verfügt über eine VIRTUAL STAGE™ Control Software, die einen schnellen, benutzerfreundlichen Arbeitsplatz und eine benutzerfreundliche Oberfläche bietet. Es ermöglicht Anwendern, den Laser mit den erforderlichen Parametern zu programmieren und Produktionsprozesse effizient zu steuern. Die Software liefert auch einen umfassenden Bericht über die programmierten Parameter und Systeminformationen, der die Genauigkeit und Wiederholbarkeit des Geräts überwacht. EV GROUP 620 arbeitet mit einem fortgeschrittenen, luftgekühlten Laser mit einer Wellenlänge von 355 nm. Das Laserlicht wird an der Maske reflektiert und dann auf das Substrat gerichtet, wo das entwickelte Muster definiert wird. Dieser Vorgang ist je nach Art und Komplexität des Musters innerhalb von zwei bis drei Minuten abgeschlossen. 620 verfügt über eine integrierte SynchronousXY-Scanning-Maschine und bietet eine hochpräzise Flugbahn für den Laserstrahl und die Maske, die eine präzise Strukturierung gewährleistet. Das Gerät verfügt über eine interessante dynamische Fokuskompensationstechnologie, die eine optimale Fokussierung in alle Richtungen gewährleistet. Es verfügt auch über eine einzigartige Pumpe und Filter auf dem Substrat. Die EVG/EV GROUP 620 bietet Anwendern zudem ein intelligentes Konfigurationstool, das bei der Herstellung von großflächigen ICs hilft. Es ist mit einem On-Axis-Wafer-Spannfutter ausgestattet, das den Wafer gleichmäßig ausrichtet. Darüber hinaus minimiert die integrierte prismenbasierte Refokussierung die Notwendigkeit globaler Neuausrichtung und steigert die Produktivität. EVG 620 verfügt auch über ein Laser-Autofokus-Modell, das den Laserfokus beim Scannen schnell anpasst und die Musterausbeute verbessert. Darüber hinaus ist diese Einheit in der Lage, eine Reihe von verschiedenen Substraten zu handhaben und ist für die Arbeit mit allen Arten von Resistmaterialien optimiert. Insgesamt ist die EV GROUP 620 ein hocheffizienter und präziser Maskenausrichter, der es Anwendern ermöglicht, komplexe und komplizierte Muster mit einem Minimum an Aufhebens zu produzieren. Es ist eine ideale Wahl für Anwender, die detaillierte Halbleiterchips und integrierte Schaltungen effizient und zuverlässig herstellen möchten.