Gebraucht EVG / EV GROUP 620 #9223622 zu verkaufen

EVG/EV GROUP 620 ist ein fortschrittlicher Maskenausrichter, der eine präzise optische Lithographie mit einer großen Fläche einheitlicher Strukturierung ermöglicht. Es ist in der Lage, Substrate bis zu einer Größe von 500 mm x 500 mm zu verarbeiten und ist auf die Anforderungen der nächsten Generation von Photomasken-Märkten ausgelegt. Die Ausrüstung basiert auf einem Arbeitszellkonzept, das sie sehr vielseitig und zuverlässig macht. Es ist mit 5 Belichtungsmodi ausgestattet, einschließlich 4-Feld, Halbfeld, Auto-Pilot und Vollfeldscannen und einem dedizierten Nivellier- und Rotationssystem für genaue Ausrichtung. Die Plattform ist mit einer hochauflösenden Videokamera ausgestattet, die eine präzise Videobildgebung des Wafers und die Beobachtung der Prozessergebnisse ermöglicht. EVG 620 nimmt eine fortschrittliche optische Einheit an, um eine hochpräzise Lithographie zu gewährleisten, wobei modernste Optik verwendet wird, einschließlich einer automatischen asphärischen Abtastlinse und einer Fluorid-Objektivlinse. Die Maschine ist ferner mit einem speziellen Ausrichtwerkzeug ausgestattet, das einen hohen Grad an Automatisierung und Wiederholbarkeit ermöglicht. Die EV GROUP 620 wurde entwickelt, um Integrationsprozesse für die Maskenproduktion zu vereinfachen und eine Reihe von Funktionen wie automatisierte Oberflächenreinigung, fortschrittliche Wafer- und Maskenerkennungsroutinen und mehrere Prozesssteuerungsfunktionen zu nutzen. Es ermöglicht auch die Verwendung einer Vielzahl von Maskengrößen und Substratmaterialien. Die Anlage ist zudem mit einem integrierten Wafer-Handler ausgestattet, der den automatisierten Austausch von Wafern ermöglicht und somit ideal für die Produktion mit hohem Durchsatz geeignet ist. Darüber hinaus kann die Software auch auf die spezifischen Anforderungen des Kunden zugeschnitten werden. Schließlich bietet 620 Maske Aligner eine einzigartige Kombination aus Leistung, Flexibilität und Präzision. Es ist ein leistungsfähiges Werkzeug für die Herstellung komplexer Photomasken und ideal für optische Lithographieanwendungen in der Mikroelektronik, Halbleiter- und Nanotechnologie-Forschung.