Gebraucht EVG / EV GROUP 620 #9224786 zu verkaufen

EVG/EV GROUP 620 Serie von Maskenausrichtern sind fortschrittliche Photolithographie-Systeme für hochpräzise Photomasken Ausrichtung und lithographische Herstellung entwickelt. Dieses Gerät ist in der Lage, extrem präzise Bilder auf Waferebene mit minimaler Temperaturschwankung zu erzeugen. EVG 620 eignet sich für eine Reihe von Anwendungen, einschließlich Prozesssteuerung und Messtechnik. Es verwendet das integrierte LensScan 3D + Vision-System, um Bilder zu erfassen und erweiterte Bildgebungsfunktionen mit seiner Digitalkamera durchzuführen. Diese bildgebende Technologie ist hochpräzise und bietet eine Auflösung von bis zu 3,5 Mikron. Der Aligner hat eine hochpräzise Stufe, die von einem Servomotor angetrieben wird, und die Stufe deckt den Hubbereich von 53mm mal 53 mm ab und kann sich zwischen 25 und 4.000 mm/s mit einer Auflösung von 0,02 mm bewegen. Die automatischen Ausrichtungseigenschaften der EV GROUP 620 sind zuverlässig und leistungsstark. Es hat eine hochauflösende Ausrichtungsgenauigkeit von 0,7 μ m und kann eine ultraschnelle 9µs-Musterausrichtung ausführen. Die automatische Ausrichtung umfasst auch erweiterte Overlay- und Prozesssteuerungssoftware. Das Gerät enthält auch ein proprietäres und ultragenaues optisches Verzerrungskorrekturmodul, das in Echtzeit läuft. Das Modul ist kompatibel mit Resistprozessen, bei denen die Strahlsteuerung für die Auflösung der höchsten Strukturebene entscheidend ist. 620 entspricht der DRIE- und ICP-Ätzung sowie chemischen Prozessen wie Cleans, Oxides, CMP und Dotierstoffen. Es ist in der Lage, Single-Wafer Micromask Ausrichtung und Prozesssteuerung, sowie Multi-Maske Stack Ausrichtung. Die Hardware der EVG/EV GROUP 620 ermöglicht einen vollautomatischen Betrieb mit geringen Betriebskosten und schneller Lieferzeit. Die Maschine verfügt über eine robuste Graphitplattform und eine 5-Zoll-Prozesskammer für All-in-One-Funktionen. Es ist auch mit einer schnellen Rezeptumwandlung und flexiblen Clusterfähigkeit sowie einem optionalen CD/CNS-Tool für den Mehrbenutzerbetrieb ausgestattet. Abschließend ist EVG 620 ein hochentwickelter Masken-Aligner, der alle Standards für eine präzise Photolithographie und Prozesskontrolle erfüllt. Mit seinen fortschrittlichen Bildgebungsfunktionen, zuverlässigen Auto-Aligning-Eigenschaften, robuster Hardware und flexiblem Betrieb ist es eine ideale Wahl für eine Vielzahl von Herstellungs- und Messtechnik-Anforderungen.