Gebraucht EVG / EV GROUP 620 #9232815 zu verkaufen

EVG/EV GROUP 620 ist ein halbautomatischer Maskenausrichter, der für eine Vielzahl unterschiedlicher Anwendungen geeignet ist. Es hat eine Prozesswiederholbarkeitsgenauigkeit von 2,0 Mikrometern und eine Substratstufengenauigkeit von 3,0 Mikrometern. Die Maschine ist modular aufgebaut und kann sowohl in Einbettungs- als auch in Nicht-Einbettungskonfigurationen betrieben werden. Der Einbettungsmodus eignet sich besser für die allgemeine Halbleiterwaferbearbeitung, während der Nicht-Einbettungsmodus eher für fortgeschrittene Maskierungsanwendungen geeignet ist. Es verfügt über eine patentierte direkte bildgebende Mustertechnik, genannt „Singleexposure“, die zu überlegener bildgebender Genauigkeit und hohem Produktionsdurchsatz führt. Auf diese Weise kann die Maschine eine Vielzahl von Prozessen durchführen, von Sputtern und Ionen-Implantation über Photolack-Reflow bis hin zur Multilevel-Metallisierung. Die EVG 620 verfügt zudem über ein umfassendes Sortiment an integrierten Sicherheitsmerkmalen. Dazu gehören eingebaute Sensoren, die Inkonsistenzen in der Ausrichtungsgenauigkeit von Maske und Wafer erkennen, automatische Strahlabschaltung, wenn die Ausrichtung um mehr als 2 Mikrometer ausgeschaltet ist, manuelle Maskenentfernung, aber automatische Fokuserkennung, um die Möglichkeit von Bedienerfehlern zu reduzieren, und optische Faser-Dressing-Technologie ressing-Funktion. EV GROUP 620 verfügt über eine Software-Benutzeroberfläche, mit der Benutzer verschiedene Aspekte der Maschine einfach konfigurieren können. Dazu gehören das Einrichten von Prozessrezepten für bestimmte Masken- und Substrattypen, das Erstellen von Ablaufverfolgungsvorlagen für die mehrstufige Strukturierung, das Ausrichten von Masken auf Wafer mit präziser Pixelgenauigkeit, das Erstellen einer stapelbaren Ablaufverfolgungsliste für die Stapelprozessnummerierung und die Anpassung. Die Software verfügt auch über vorkonfigurierte Profile, so dass Benutzer Stapelprozesse schnell und effizient einrichten können. Die Maschine bietet eine reinraumkompatible Umgebung mit einem engen Temperaturbereich von 10-38 ° C und einer relativen Luftfeuchtigkeit von 60%, wodurch keine unnötigen Störungen des Prozesses gewährleistet werden. 620 verfügt auch über ein erweitertes Präzisionsausrichtungssystem (APS), das einen hochgenauen und wiederholbaren Ausrichtungsprozess gewährleistet. Dadurch wird sichergestellt, dass das gewünschte Muster exakt nach Vorgabe des Benutzers registriert wird. Insgesamt ist die EVG/EV GROUP 620 ein zuverlässiger und flexibler Maskenausrichter, der qualitativ hochwertige Ergebnisse bei gleichbleibender Reproduzierbarkeit liefert. Der modulare Aufbau und die breite Palette integrierter Sicherheitsfunktionen machen es zu einer leistungsfähigen und wünschenswerten Wahl für jede Produktionsumgebung, die eine hochpräzise Maskierung erfordert.