Gebraucht EVG / EV GROUP 620 #9261506 zu verkaufen

EVG/EV GROUP 620 ist ein Masken-Aligner, der für die Nanolithographie, insbesondere Photolithographie, verwendet wird. Es ist ein Halbleitermusterinstrument, das in der Lage ist, Muster wie Linien und Vias genau auf ein Substrat zu übertragen und auszurichten. Die Hauptkomponenten des EVG 620 sind die optische Säule, Lasersteuerungssysteme und die Waferstufen. Die optische Säule der Aligner EV GROUP 620 ist in der Lage, Licht durch eine Vielzahl von Masken und Retikeln zu projizieren, mit denen ein Muster auf ein Substrat übertragen wird. In der Säule befinden sich auch Lichtabgabe- und Relaisoptiken, wie die Galvo-Spiegel, die das Lichtmuster über das Substrat bewegen. Darüber hinaus enthält es Präzisionsstufen, die den Laserstrahl lenken, um Muster genau auszurichten. Die Lasersteuerungssysteme des Aligner 620 dienen dazu, die Leistung, Wellenlänge und Belichtungszeit des Lasers an das gewünschte Muster anzupassen. Das System enthält auch Optiken, z. B. einen multalingualen Darstellungsbereich, so dass Benutzer die Genauigkeit bei der Ausrichtung von Mustern sicherstellen können. Schließlich sind die Waferstufen des Aligner EVG/EV GROUP 620 für die Bewegung des Substrats verantwortlich. Die Stufen sind in der Lage, Substrate mit hoher Genauigkeit schnell zu lokalisieren und zu positionieren, so dass Muster korrekt und präzise ausgerichtet werden können. EVG 620 verfügt über einen erweiterten Fahrbereich und eine Wiederholbarkeit von 1 µm, was eine hervorragende Positioniergenauigkeit ermöglicht. Insgesamt ist die EV GROUP 620 Maske Aligner ein zuverlässiges und präzises Musterinstrument für die Lithographie. Mit seinen Lasersteuerungssystemen, optischen Säulen und Waferstufen ist es in der Lage, Muster schnell und effektiv genau auf Substrate zu übertragen und auszurichten.