Gebraucht EVG / EV GROUP 620 #9268449 zu verkaufen

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Hersteller
EVG / EV GROUP
Modell
620
ID: 9268449
Weinlese: 2004
Mask aligner 2004 vintage.
EVG/EV GROUP 620 ist ein hochmoderner Masken-Aligner für präzise Photolithographie. Es verfügt über erweiterte Automatisierung, Submikron-Ausrichtungsgenauigkeit und einen großen überdachten Bereich. Dieses Gerät verfügt über einen 4-Zoll (10 cm) -Vollfeldscanner, der einen maximalen Durchsatz bieten kann und bis zu 500 Prozeduren pro Stunde ermöglicht. Die patentierte Vertical Machine Alignment (VMA) Funktion sorgt für eine flache Ebene auch auf Strukturen mit großen topographischen Oberflächenunterschieden, was zu einer beispiellosen Direktschreib- und Overlay-Leistung führt. Das System ist sehr modular und skalierbar und ermöglicht eine Reihe von Konfigurationen, die auf die spezifischen Bedürfnisse des Benutzers zugeschnitten werden können. Es kann über eine einfache grafische Benutzeroberfläche oder über ein Netzwerk von eingebetteten Computern mit höherem Durchsatz und Automatisierung betrieben werden. EVG 620 hat zwei Hauptkomponenten: einen Hauptrahmen für den Aligner und ein Transduktionselektronik-Paket, um einen schnellen Datentransfer zwischen dem Gerät und den Scannern der oberen und unteren Ebene zu ermöglichen. Die auf einem Aktor basierende optische Maschine sorgt für eine schnelle und präzise Ausrichtung der Maskenstempel auf Wafer. Das Werkzeug integriert eine programmierbare Strahl-Scanner-Stufe mit einem eingebetteten Laser-Interferometer-Asset, um Submikron-Ausrichtungsgenauigkeit zu ermöglichen. EV GROUP 620 kann verwendet werden, um Overlay-Markierungen auf Masken und Wafern zu platzieren, sowie um Direkt-Schreiben-Ebenen zu erstellen. Für den direkten Schreibvorgang kann das Modell variable Belichtungspegel bereitstellen. Es ist kompatibel mit einer breiten Palette von Materialien, einschließlich Photoresist, Oxid und Nitrid. Die Ausrüstung wird mit strengen Qualitätskontrollstandards hergestellt, die den Anforderungen aller wichtigen Halbleitergießereien entsprechen. Es ist eine zuverlässige und kostengünstige Lösung für präzise Photolithographie.
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