Gebraucht EVG / EV GROUP 620 #9283060 zu verkaufen

EVG/EV GROUP 620 ist ein Masken-Aligner, entworfen, um Strukturen von Nanometern Genauigkeit zu produzieren. Es ist ein vielseitiges Werkzeug, entworfen, um heterogene, einschichtige oder mehrschichtige Materialstrukturen und Muster zu erzeugen. Die Maschine verwendet Lithographietechnik sowie neue Fortschritte bei der Ausrichtung und Messung von Wafer-Mikrostrukturen mit Nanometergenauigkeit. EVG 620 ist äußerst präzise mit Funktionen, die konsistent Hochleistungsschweißen, Mustern und Ätzen gewährleisten. Das Gerät beinhaltet hochauflösende Ausrichtung und Nanometergenauigkeit bei der Platzierung von Strukturen und Mustern. Der Stepper beinhaltet eine CCD-Kamera, die zur Messung von Ausrichtung, z-Position und Strukturlage dient. Dies ermöglicht eine präzise und zuverlässige Ausrichtung der notwendigen Muster, die im Endprodukt erzeugt werden. EV GROUP 620 ist ideal für extrem hochauflösende Bilder von Nanometerstrukturen durch Verdampfung. Das Gerät verwendet seine Verdampfungstechnologie, um das molekulare Material, das für die Nanometer- und Submikron-Eigenschaftsgrößen benötigt wird, genau zu verdampfen. Der Stepper verwendet auch eine spezialisierte, geschlossene Schleife Auto Align Technologie. Dies bedeutet, dass der Stepper ständig Korrekturen vornimmt, um eine Ausrichtung zwischen Maske und Substratscheiben zu gewährleisten. Dies ermöglicht eine verbesserte Genauigkeit im Endprodukt. Darüber hinaus enthält 620 eine Vorausrichtungs- und Nachausrichtungsfunktion, die sicherstellt, dass die Ausrichtung zwischen der Maske und dem Wafer während des Prozesses ungestört ist. Die Vorausrichtungsstufe richtet die Maske vor der Belichtung aus und die Nachausrichtung hilft bei der Verbesserung der Ausrichtung auf den Wafer. EVG/EV GROUP 620 ist mit einem fortschrittlichen Frontal- und Kantenbelichter ausgestattet, um sicherzustellen, dass die Muster korrekt belichtet werden. Der Stepper enthält auch Funktionen wie Autofokus und Polarisation, die die Genauigkeit der Muster verbessern. EVG 620 bietet eine breite Palette von Plasmaätzoptionen, die helfen können, Nanometermuster mit hoher Genauigkeit zu produzieren. Es hat Optionen wie Helium-Plasma-Prozess, Argon-Plasma-Prozess und Sauerstoff-Ozon-Plasma-Prozess. Die Plasma geätzten Muster sind sehr zuverlässig und können verwendet werden, um komplexe Material Mikrostrukturen zu schaffen. Das Gerät ist benutzerfreundlich und wird mit einer benutzerfreundlichen ATC-Software zur Steuerung des Geräts geliefert. Diese Software ermöglicht eine einfache Steuerung, Überwachung und Bedienung des Geräts. Es enthält auch Werkzeuge wie automatische Parameteranpassung, Kurvenformstück, statistische Analyse und eine integrierte Datenbank. Die EV GROUP 620 hat auch die Fähigkeit, Muster mit extrem hohen Seitenverhältnissen zu produzieren. Es ist auch für alle Arten von Archivmaterialien einschließlich Metall, Glas, Polymerharz und Keramikschichten verwendet werden. 620 ist ein unverzichtbares Werkzeug, um präzise und zuverlässige Strukturen und Muster auf Nanometerebene zu schaffen. Es ist ein vielseitiges Gerät, das sicherstellt, dass die Endprodukte auf dem höchsten Standard sind.