Gebraucht EVG / EV GROUP 620 #9352151 zu verkaufen

EVG/EV GROUP 620 ist ein hochpräziser Maskenausrichter, der verwendet wird, um ein Muster, wie eine Photomaske, mit höchster Genauigkeit auf das Substrat auszurichten und zu übertragen. Dieser Aligner verwendet einen sechsachsigen Roboterarm, um eine beispiellose Wiederholbarkeit von 4 Mikrometern und Sub-Nanometern zu gewährleisten. Es hat die Fähigkeit, Funktionen so klein wie 0,5 Mikron mit einer 5-Sigma-Genauigkeit von 1 Mikron über eine 6-Zoll-Wafer-Größe zu übertragen und auszurichten. EVG 620 verwendet patentierte Strahlbelichtungstechnologie, die in der Lage ist, ein homogenes Strahlfleckmuster mit ausgezeichneter Formgenauigkeit zu erzeugen. Seine hochauflösende räumliche Licht Modulator Array macht es ideal für Flüssigkristall-Display und Halbleiter Maske Ausrichtung Anwendungen. Die acht dedizierten, betätigten Stufen des Geräts ermöglichen einen hohen Durchsatz mit schneller Ausrichtungsgeschwindigkeit, und seine photonischen, logischen Steuerungen bieten sofortiges Feedback für längere Produktionsläufe. Eine intuitive Benutzeroberfläche sorgt für eine präzise Einrichtung und eine integrierte Bibliothek ermöglicht den Zugriff auf häufig verwendete Parametersätze für weiteren Komfort. Die EV GROUP 620 nutzt eine hochmoderne optische Ausrichtstation, die eine 100-prozentige Feldabdeckung ermöglicht und für bis zu fünf Kanäle konfiguriert werden kann. Dieser Aligner verfügt über ein fortschrittliches Strahlvergrößerungssystem, das einen Satz von fünf Fokus-Linsen mit einzigartigen Strahlsteuerungsfunktionen für mehr Produktivität kombiniert. Seine integrierte Software verwendet einen intelligenten Muster-Matching-Algorithmus und fortschrittliche Makro-Techniken, um die Ausrichtungsgenauigkeit zu verbessern. Darüber hinaus bietet 620 verschiedene Ausrichtungsmodi, um unterschiedlichen Anwendungsanforderungen gerecht zu werden, und die Messtechnik-Einheit bietet Feedback für eine kontinuierliche Prozessoptimierung. Die einzigartige Autofokusmaschine des aligners liefert die optimalen Akzeptanzkriterien für eine extrem genaue Ausrichtung für alle Wafergrößen ohne manuellen Eingriff. Darüber hinaus verfügt dieses Tool auch über erweiterte globale Ausrichtungsoptionen wie XY- oder XYT-Funktionen, um eine effizientere Ausrichtung auf Waferebene zu gewährleisten.