Gebraucht EVG / EV GROUP 6200 Infinity #9189343 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 9189343
Bond aligner, 8"
Wafer to wafer aligner: Subsequent wafer bonding applications
General:
Software adjustable
Wafer separation distance: 0 - 300 μm
Wafer thickness: 0.1 - 4.4 mm
Total stack thickness: 4.5 mm
Semi automatic loading with mechanical prealignment
Quick change of chuck
Automatic pressure
Vacuum transfer
Alignment accuracy: ± 1μm
High process objectives
NRTL Listing mark: UL STD 61010A-1
Storage rack: (5) Aligner tools
Software:
MS-Windows
PC Controlled operating environment
Self explaining commands
Remote diagnostics1
Software for bond alignment:
Recipe parameters
User guidance
Optical alignment: (2) Wafers
Silicon direct bonding (SDB)
Substrate configurations: Si+Glass, Si+Si
Subsequent anodic
Thermo-compression
Fusion bonding processes: EVG 500 series bond system
Nanoalign technology package:
High performance frame grabber running
COGNEX PatMax vision software technology
Increases EVG aligner microscope resolution: Factor ~2
Image quality: 100 % Digital signal processing
Key identification feature: Multi layer alignment key design
Scaled (Over / Under etched) alignment keys
Enhanced digital zoom capabilities
Crosshair mode: Standard backside alignment processes
Alignment stage motorized:
Alignment stage: X, Y, theta, Z
Joystick alignment: Via (3) axes
DC Motor controllers: Cursor key fine alignment
Automatic wedge compensation system: Optimized print gap control
WEC Contact force: 0.5 - 40 N adjustable
Shift between mask and wafer: No
Automatic alignment for top / bottom side:
Vision system (Integrated in PC)
Storage:
Trained mask
Substrate patterns on hard disk
Software integrated in EVG 6200 computer controller
Alignment marks: Top / Bottom side alignment
Alignment results:
Process conditions
Material properties
Bottom side microscope:
Motorized splitfield microscopes
Visible light with high resolution CCD cameras
Digitized alignment keys (Mask) / Cross hair
Travel range:
X: 78 mm - 180 mm
Y: ± 12 mm
(2) Objectives: 5x (3.6x - 20x)
Objective: 3.6x:
Field of view per objective: ~ 1.5 mm x 1 mm
Rack unit:
Integrates EVG 6200 system
Operating elements
Monitor vibration isolated
Prepared for robotic auto load system
Bond tool universal, 8":
Anodic
Thermo compression
Silicon direct bonding process
Bond chuck with mechanical clamping
Loading chuck
Separation flags
Currently warehoused
2008 vintage.
EVG/EV GROUP 6200 Infinity ist ein Masken-Aligner, der komplexe optische Miniaturgeräte effizienter herstellen und analysieren soll. EVG 6200 Infinity integriert patentierte Masken- und Wafer-Stufen mit Software, um eine sehr wiederholbare und präzise Ausrichtung auf Prozesse zu schaffen. Es besteht aus vollautomatisierten Ausrichtungssystemen mit integrierter Bildgebung und automatisierten Rezepten, um den gesamten Prozess zu optimieren. Die EV GROUP 6200 Infinity verfügt über erweiterte Funktionen wie eine optimierte Positionierung für zwei Substrate mit Ober- und Unterseite-Bildgebung, eine vollautomatische Einrichtung und Ausführung einer Vielzahl von Prozessen und die Möglichkeit, eine Vielzahl von Bildgebungssystemen zu erstellen. 6200 Infinity bietet präzise und präzise Ausrichtung, insbesondere mit optischen Prozessen. Es richtet Referenzpunkte auf zwei Substraten aus und sorgt für eine präzise Registrierung und Wiederholbarkeit, auch bei kleinen Strukturen oder mehreren Orientierungen. Es verfügt auch über eine patentierte 0,3-Mikron-Auflösung Ausrichtung Ausrüstung mit einem State-of-the-Art-optischen System, das genau zu erkennen Sub-Mikron-Funktionen und zeigen präzise Ausrichtung der Merkmale innerhalb eines ein oder zwei-Substrat-Anwendungen. Darüber hinaus bietet EVG/EV GROUP 6200 Infinity eine verbesserte Betriebsgeschwindigkeit, sodass Anwender prozessinterne Optimierungsdaten in kürzester Zeit erstellen können. Die EVG 6200 Infinity ist weiter mit einem Wafereinspanner in der Mitte der Einheit ausgestattet, um auch bei höheren Temperaturbedingungen eine Langzeitstabilität zu gewährleisten. Es verfügt auch über erweiterte Bewegungsfunktionen, so dass alle Bewegungsachsen angepasst werden können, einschließlich XYZ/ φ/Z, XYZ/ICH/DCN, XYZ/E/PN und XYZ/V/CN. Darüber hinaus bietet die Maschine eine Vielzahl von Durchsatzoptimierern für hohe Volumenausbeuten sowie eine breite Palette von Hilfstechnologien, um die Gesamtkosten weiter zu senken und gleichzeitig die Genauigkeit und Wiederholbarkeit zu erhöhen. EV GROUP 6200 Infinity ist in der Tat ein moderner Maskenausrichter, der Anwendern präzise und wiederholbare Ausrichtungsfunktionen sowie eine erhöhte Betriebsgeschwindigkeit und Genauigkeit bietet. Dies macht es zu einer idealen Lösung für die Erstellung komplexer optischer Miniaturgeräte, die eine hohe Genauigkeit und Wiederholbarkeit erfordern.
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