Gebraucht EVG / EV GROUP 6200 NT #293810696 zu verkaufen
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ID: 293810696
Weinlese: 2017
Mask aligner
Dual-Sided
Exposure Modes: Hard, soft, and vacuum contact
Separation Distance: 0–300 µm
Wafer Thickness: 0.1 - 10 mm
Semi-Automatic Loading: Chuck pre-alignment
Quick Mask / Chuck Change
Rack: Holds up to 5 alignment tools
2017 vintage.
EVG/EV GROUP 6200 NT ist ein hochentwickelter Maskenausrichter für Halbleiter- und Optoelektronik-Fertigungsprozesse. Diese Präzisionsmaschine bietet beispiellose Ausrichtgenauigkeit und Prozessflexibilität und ist damit ein leistungsfähiges Werkzeug für Forschung und Produktion in der Halbleiterindustrie. Eines der Hauptmerkmale von EVG 6200 NT ist seine hochauflösende Optik, die eine präzise Ausrichtung von Maske und Substrat während des Belichtungsprozesses gewährleistet. Die Maschine ist mit modernsten Ausrichtungsalgorithmen und fortschrittlicher Phasenschiebetechnologie ausgestattet, die auch auf anspruchsvollen Substraten eine Ausrichtgenauigkeit von Sub-Mikron ermöglicht. EV GROUP 6200NT ist in der Lage, eine breite Palette von Substratgrößen zu handhaben, von kleinen Stücken von Halbleiterscheiben bis hin zu größeren Glassubstraten, die in optoelektronischen Anwendungen verwendet werden. Die Maschine bietet sowohl manuelle als auch automatische Ausrichtungsmodi und bietet Anwendern die Flexibilität, die beste Ausrichtungsmethode für ihre spezifischen Prozessanforderungen zu wählen. Zusätzlich zu seinen Ausrichtungsmöglichkeiten bietet EV GROUP 6200 NT auch erweiterte Belichtungssteuerungsfunktionen, um eine gleichmäßige und konsistente Belichtung über das gesamte Substrat zu gewährleisten. Die Maschine ist mit anspruchsvollen Lichtintensitätsmodulations- und Belichtungszeitkontrollmechanismen ausgestattet, die es Anwendern ermöglichen, präzise Belichtungsbedingungen für ihren speziellen Lithographieprozess zu erreichen. EVG/EV GROUP 6200NT ist mit benutzerfreundlichen Software-Schnittstellen konzipiert, die eine einfache Einrichtung und Bedienung der Maschine ermöglichen. Das intuitive Bedienfeld bietet Zugriff auf alle Maschinenfunktionen, einschließlich Ausrichtungseinstellungen, Belichtungsparameter und Systemdiagnosen. Die Maschine wird auch mit integrierten Ausrichtungs- und Belichtungsrezepten geliefert, so dass Benutzer ihren Lithographieprozess schnell einrichten und ausführen können. Für Forscher und Entwickler bietet 6200 NT erweiterte Prozessentwicklungsfunktionen. Die Maschine ist mit anpassbaren Belichtungsprofilen ausgestattet, die es Anwendern ermöglichen, mit unterschiedlichen Belichtungsbedingungen zu experimentieren und ihren Lithographieprozess für spezifische Anwendungsanforderungen zu optimieren. Die Maschine unterstützt auch erweiterte Funktionen zur Prozessüberwachung und Datenprotokollierung, sodass Benutzer Prozessparameter in Echtzeit verfolgen und analysieren können. Insgesamt ist EVG 6200NT ein vielseitiger und zuverlässiger Maskenausrichter, der den anspruchsvollen Anforderungen der Halbleiter- und Optoelektronikindustrie gerecht wird. Seine erweiterten Ausrichtungs- und Belichtungssteuerungsfunktionen, gepaart mit seiner benutzerfreundlichen Schnittstellen- und Prozessentwicklungsfunktionen, machen es zu einem wertvollen Werkzeug für Forschung, Entwicklung und Produktion von fortschrittlichen Halbleiter- und Optoelektronik-Bauelementen.
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