Gebraucht EVG / EV GROUP 6200 #9296383 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 9296383
Wafergröße: 8"
Weinlese: 2006
Automated mask aligner, 8"
Mask holder square, 9"
Wafer chuck, 8"
Double-sided / Backside alignment capability
Manual load
Motorized illuminator: 1000 W lamp (joystick)
Manual XYZ stage (coarse and fine adjustments)
PC
Lamp
Mirror
2006 vintage.
EVG/EV GROUP 6200 ist ein Masken-Aligner, der die Lithographie auf Waferebene erleichtert. Dieses Präzisionswerkzeug wird in der Halbleiterindustrie für die Photomaskenherstellung und andere damit zusammenhängende Verfahren eingesetzt. Mit einem hochmodernen optischen Bildgebungsgerät mit hoher Auflösung und neuartigen Ausrichtungsalgorithmen ist EVG 6200 in der Lage, hochpräzise Muster auf Wafern zu erzeugen. Das Gerät ist mit einer 6-Zoll (152,4 mm) -Station ausgestattet, die eine Reihe von Größen bis zu 12-Zoll (304,8 mm) -Wafern unterstützt. Es verfügt über ein einzigartiges optisches Design mit einer Nennauflösung von 0,6 Mikron, was eine überlegene Ausrichtungsgenauigkeit ermöglicht. Je nach verwendetem Modus kann die Ausrichtgenauigkeit des Werkzeugs eine Toleranz von ± 0,01 Mikron erreichen. Die maximale automatische Ausrichtgeschwindigkeit der EV GROUP 6200 erreicht bis zu 3200 Mikrometer/s2 und bietet zuverlässige, schnelle Ausrichtungsprozesse. Dies beschleunigt die Produktivität und erzielt gleichzeitig die gewünschten Ergebnisse. 6200 ist mit hochmodularisierten Plattformen konzipiert, die eine offene Architekturumgebung ermöglichen. So können Anwender das System mit eigenen Rotations-, Index- und Wafer-Handling-Komponenten individuell anpassen. Diese Anpassung verbessert die Fähigkeit des Geräts, bei spezialisierten Aufgaben gut durchzuführen. In Bezug auf die Bedienung ist die Maschine mit einer intuitiven grafischen Benutzeroberfläche (GUI) ausgestattet, die es Anwendern ermöglicht, Prozesse von der Wafer-Platzierung bis hin zu Ausrichtungs- und Nachrichtaktionen schnell abzuschließen. Die GUI zeigt ein umfassendes Prozessflussdiagramm, mit dem Anwender den Prozess einfach überwachen können. Das Werkzeug bietet verschiedene Stützen, darunter Filmrahmenträger, Wafer-Rahmen-Stützen und Metall-Rahmen-Stützen. Der Metallrahmenträger ist so konzipiert, dass ein Verrutschen beim Be- und Entladen von Substraten verhindert wird, wodurch eine stabile und sichere Umgebung für den Maskenausrichter geschaffen wird. Insgesamt ist EVG/EV GROUP 6200 ein anspruchsvoller Maskenausrichter, der überlegene Genauigkeit und präzise Ergebnisse liefern kann. Die modernsten Technologien, die modulare Plattform und die benutzerfreundliche Oberfläche sorgen dafür, dass Anwender hochpräzise Prozesse schnell und effektiv sicher abschließen können.
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