Gebraucht EVG / EV GROUP 6200TBR #9028178 zu verkaufen

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ID: 9028178
Double sided mask aligner Topside and bottomside microscopes Auto load with (3) cassette stations Cognex Patmax vision system with auto alignment capability Nanoalign package Standard and high bow chucks 6" wafer chuck vacuum contact 6" wafer chuck for warped wafers plus proximity pins 8" wafer chuck vacuum contact 8" wafer chuck for warped wafers with proximity pins Mask holders and loading frames for 7" masks Mask holders and loading frames for 9" masks UV meter Currently installed.
EVG/EV GROUP 6200TBR ist ein Maskenausrichtgerät, das zur präzisen Ausrichtung von Substraten und Masken in Vorbereitung auf nachfolgende Lithographieverfahren entwickelt wurde. Es erleichtert die Genauigkeit der Overlay-Ausrichtung sowie die Stufen- und Wiederholungsausrichtung und ist somit die perfekte Wahl für die Bildgebung auf Wafer-Ebene und Panel-Ebene. EVG 6200TBR bietet fortschrittliche Lithographiefähigkeiten und ist ideal für die Herstellung von standardkonformen optischen Geräten. Das System unterstützt optische Resists mit 5x, 10x und 20x Vergrößerungen. Es enthält auch eine eingebaute Tieftemperaturstufe und eine Auflösung von 4 μ m für die Ausrichtung von Merkmalen auf Waferebene. Die EV GROUP 6200TBR verfügt über eine hochpräzise, motorisierte Stufe für optimale Genauigkeit bei Ausrichtungsaufgaben auf Waferebene. Das benutzerfreundliche Design des Geräts macht es einfach zu bedienen, während seine selbstprüfende Maschine zuverlässige Leistung gewährleistet. Es ist mit einem 6,5-Zoll-LCD-Monitor und intelligenten, automatisierten Funktionen für eine einfache Bildprüfung ausgestattet. Darüber hinaus bietet 6200TBR integrierte Strahlausrichtungs-, Wafer-Lade-, Auto- Fokussierungs- und Belichtungssteuerungsfunktionen in Kombination mit fortschrittlichen Scantechniken, um eine zuverlässige Bildgebung zu gewährleisten. EVG/EV GROUP 6200TBR ist mit Blick auf die Sicherheit konzipiert und verfügt über ein integriertes Sicherheitswerkzeug, das eine übermäßige Strahlenbelastung des Substrats verhindert. Dadurch wird auch sichergestellt, dass Strahlung während eines bestimmten Photolithographiebetriebs auf einem sicheren Niveau gehalten wird. Darüber hinaus verfügt EVG 6200TBR über eine optionale integrierte Plattform, die es Anwendern ermöglicht, Kontaminationsverhütung und Umweltkontrolle sicherzustellen. Die EV GROUP 6200TBR ist eine flexible und zuverlässige Wahl für die Maskenausrichtung. Es bietet erweiterte Funktionalität, Genauigkeit, Sicherheit und Benutzerfreundlichkeit. Durch den Einsatz fortschrittlicher Bildgebungstechnologien stellt 6200TBR sicher, dass alle Verarbeitungsschritte korrekt ausgerichtet sind, um optimale photoliyhographische Ergebnisse zu erzielen.
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